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低分子シロキサン分析

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化学分析  /  環境 化学・樹脂 試験・分析・測定

シロキサンによる接点障害を防止します

 

シロキサン分析 シロキサン接点障害に関する、原因解析、シロキサンガスの発生源特定、発生量測定シロキサンガス暴露試験(再現試験)など一連の分析、解析、再現試験等をワンストップで実施します。

 

 

 

 

低分子シロキサンとは

 

シロキサンとは(-Si-O-Si-)を分子骨格に持つ、けい酸有機化合物の総称です。
その分子骨格の中にO-Si-Oの構造がn個あるものをn量体といい、量体の数字が大きくなると沸点が高く、逆に量体の数字が小さいと沸点が低くなります。一般環境中で影響をおよぼすとされる量体は3量体~9量体程度といわれており、常温・常圧で気化し、雰囲気中を浮遊する可能性があります。  

 

 

低分子シロキサン接点障害とは

 

電子部品に対してシロキサンが不具合を誘発する例としてはリレーの接点不良があります。密閉された部品の中に低分子シロキサンを発生させるシリコーンを使用していると、
部品の動作熱により、シロキサンが発生します。リレー接点の開閉時に発生するアークにより接点近傍のシロキサンが分解されてSiO2となり接点上に堆積して接点障害を引き起こすというものです。 

 

  

シロキサン接点障害の分析例

 

シロキサンガス雰囲気中でON/OFFを繰り返した接点に付着した異物の元素分析(面分析)を実施しました。Si・Oは異物と同じ分布がみられますが、Cは全体に分布していることから、異物はSi・Oだけで構成されるSiO2と推定されます。

 

シロキサン接点障害   

 

 

化学分析や成分分析に関するお問い合わせ

 

RoHS指令の規制物質、REACH規則で定められた高懸念物質(SVHC)のスクリーニング分析から精密分析まで、成分分析については、OKIエンジニアリングまでお気軽にお問い合わせください。

 

お見積りのご依頼や試験可否については、製品や部品の品名情報、詳しい試験や分析の条件についてお知らせいただけるとスムーズです。  

 

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