No.558　2008年1月30日
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┃●大手メーカーや大学に半導体、MEMS関連開発の実績、多数！
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開発研究・設計の効率性向上において重要な役割を担う、解析・設計ツール
やシミュレーションソフトウェア。みずほ情報総研様では、ITや高速通信ネ
ットワーク社会を支えるエレクトロニクス分野の基盤技術強化に最適なソリ
ューションを提供。大手メーカーや大学に半導体、MEMS関連開発の実績が多
数あります。

※※※※※※※※※※※【 ここにフォーカス！ 】※※※※※※※※※※※

　　電子デバイス、半導体製造装置、MEMS、光、LSI設計などの
　　高速解析ツールやシミュレーター、ソフトウェア開発ご提供！
　　　みずほ情報総研のエレクトロニクス・ソリューション

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■エレクトロニクス関連ソリューションを提供！
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同社では、太陽電池デバイス、光デバイス、量子効果デバイスを含む半導体
素子設計からLSI設計のほか、微細加工技術、電磁場問題、マイクロマシン
(MEMS) 領域までのソフトウェアを開発。

さらに、その販売、当該分野における解析、調査などのソリューションを提
供しています。各種ツールやソフトウェアの開発、販売に留まらず、同社で
は導入から適応、受託解析までのコンサルティングサービスも行っています。


■開発研究・設計の効率性向上に貢献するシステム
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主なエレクトロニクス関連業務としては、プロセス・微細加工分野の
「FabMeister」シリーズ、デバイス関連では「DeviceMeister」シリーズが
あります。

例えば、「FabMeister」シリーズの一つ「FabMeister-TG」は、LSI試作ウェ
ハを解析する電気特性評価システム。試作ウエハのTEGトランジスタ電気特
性のばらつき解析を行い、プロセス設計を支援するシステムです。ばらつき
低減、早期歩留り向上をはかり短TAT化を実現。大手半導体デバイスメーカ
への導入実績があります。


■その他のプロセス・微細加工 FabMeisterシリーズ
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高精度・高コントラストな画像を得るための照射ビーム条件、検出器条件の
最適化解析が可能！
3次元SEM/STEM解析シミュレータ FabMeister-EB

プラズマエッチング、CVD、スパッタリング、イオン注入などの加工プロセス
における基板表面形状の時間発展を解析するシミュレータ
プラズマプロセス形状シミュレータFabMeister-PE

従来経験と勘に頼っていためっきプロセスの最適設計を支援する高速解析
ツール！
めっきシミュレータ　FabMeister-EP


■デバイス DeviceMeisterシリーズ
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シリコン、化合物、有機デバイスおよび太陽電池の電気特性や光学特性を計
算する2次元デバイスシミュレータ
2次元デバイスシミュレータDeviceMeister-WV

最適化機能により素子構造の自動設計を支援
有機EL光伝播解析シミュレータDeviceMeister-OE

レーザー照射条件や物性値から吸熱、温度分布、冷却速度、相変化を計算　
相変化型光ディスク解析シミュレータDeviceMeister-LP

ホログラムを利用した次世代記録媒体として注目されているフォトポリマ
ーの記録プロセスを解析するシミュレータ
フォトポリマー記録シミュレータ　DeviceMeister-PP


その他、エレクトロニクス関連業務実績についてもご紹介しています。


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