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イベント

【Live配信セミナー 8/3】EUVリソグラフィの最新動向とレジスト材料の設計、評価技術

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化学・エレクトロニクス:セミナー  / 2021年06月09日 /  産業機械機器 化学・樹脂 電子・半導体
イベント名 EUVリソグラフィの最新動向とレジスト材料の設計、評価技術
開催期間 2021年08月03日(火)
10:00~16:30
会場名 ZOOMを利用したLive配信 ※会場での講義は行いません
会場の住所 東京都
お申し込み期限日 2021年08月02日(月)15時
お申し込み

<セミナー No.108401>

 

【Live配信セミナー】

EUVリソグラフィの最新動向と

レジスト材料の設計、評価技術

 

★本格的な量産へ向けた課題とその克服へ向けた技術開発の動向をチェック!

★次世代のEUVレジストとして期待される「メタルレジスト」の特徴、評価方法も解説

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■講師
1.兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長 EUVリソグラフィー研究開発センター長 教授 渡邊 健夫 氏
2.関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏
3.リソテックジャパン(株) ナノサイエンス研究部 部長 関口 淳 氏

 

■聴講料
1名につき60,500円(消費税込・資料付き) 
1社2名以上同時申込の場合1名につき55,000円(税込)
大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくはお問い合わせください。

 

■Live配信セミナーの受講について
・下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
 → https://zoom.us/test
・開催日が近くなりましたら、視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・Zoomクライアントは最新版にアップデートして使用してください。
 Webブラウザから視聴する場合は、Google Chrome、Firefox、Microsoft Edgeをご利用ください。
・セミナー資料はお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。お申込みが直前の場合には、開催日までに資料の到着が間に合わないことがあります。ご了承ください。
・当日は講師への質問することができます。可能な範囲で個別質問にも対応いたします。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。
・Zoomのグループにパスワードを設定しています。部外者の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。万が一部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

プログラムあああああああああああああああああああああああああああああああああああああ

<10:00~12:00>

1.EUVリソグラフィの最新動向と課題解決への技術開発

 

兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏

 

【講座概要】

EUVリソグラフィー(EUVL)技術は2020年よりスマートフォン、タブレット等のロジックデバイスの量産技術として本格的な量産技術として採用されています。次世代の半導体の量産に向けて、多くのEUVL技術課題があり、黎明期での開発の内容を知って上で、これらの課題可決に取り組む必要があります。一方で、我が国の経済活性化には半導体技術の進展が必須であり、国の安全保障と密接に絡む技術であります。この意味においても、まだまだ半導体微細加工技術が果たす役割が強い状況です。

以上の内容を鑑みた講演内容になっていますので、ご視聴を頂けると幸いです。

 

1.半導体国際ロードマップの紹介

 

2.微細加工技術の必要性とその効果

 

3.なぜEUVリソグラフィーが必要か?

 

4.EUVリソグラフィーとは?

 

5.EUVリソグラフィーの黎明期について

 

6.EUVレジスト、マスク、ペリクル技術の現状とそれらの技術課題

 

7.EUVリソグラフィー課題克服に向けた取り組み

 

8.Beyond EUVリソグラフィー技術開発に向けた取り組みの紹介

 

8.世界に於ける日本の半導体技術覇権に向けての問題点・課題

 

9.まとめ

 

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<13:00~14:40>

2.EUVリソグラフィ用レジスト材料の要求特性と分子設計

 

関西大学 工藤 宏人 氏

 

【講座概要】

フォトレジスト材料は、露光システムの性能を発揮すべく、様々な構造を基盤としたポリマーや低分子化がお応物の合成が検討されてきた。レーザーに対する透明性、感度、ラフネス、耐エッチング性、および薄膜の安定性などである。それらのレジスト特性は、ポリマーや低分子の基本的な物理的特性や、光反応性のデータを集めることで、かなりの深部まで予想することが可能であり、特別なレジスト関連機器がなくても、レジスト材料の分子設計は可能であることを解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について解説し、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。

 

1.レジスト材料

 1.1 原理

 1.2 合成

 1.3 化学増幅型

 

2.ポジ型レジスト材料

 

3.ネガ型レジスト材料

 

4.高分子レジスト材料と低分子レジスト

 

5.レジスト材料の評価方法と開発方法の実例

 

6.最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)

 

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<14:50~16:30>

3.EUVレジストの評価技術

 

リソテックジャパン(株) 関口 淳 氏

 

【講座概要】

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法について、解説します。

 

1.EUVLの概要

 1.1 EUVLの概要

 1.2 EUVL用レジスト

 

2.アウトガス評価技術

 2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法

 2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置

 

3.EUVレジストの評価技術

 3.1 EUV透過率測定

 3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化

 

4.EUVメタルレジストの評価技術

 4.1 メタルレジストの概要

 4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析

 4.3 EUVメタルレジストの問題点

 

5.EUVフォトレジストと電子線レジストの感度

 

セミナーの詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

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