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赤外線応用計測装置 インライン近赤外線液体成分濃度計(超高性能型)「ケミカライザー AceⅡ KPシリーズ」

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液体成分濃度計  /  産業機械機器 電子・半導体 試験・分析・測定

~インライン近赤外線液体成分濃度計(超高性能型)

「ケミカライザー AceⅡ KPシリーズ」の紹介~

 

高精度測定が可能なライン組み込み型

 

数々の新技術を盛り込み、当社従来機比で1オーダーの精度アップを実現しております。
ワンランク上の測定精度を求められる場合に最適です。
測定誤差要因因子を極力排除し、高分解能、高安定性を実現しております。
サンプリング部を内蔵し、かつ現場ラインとの接続が容易なインライン型です。
RoHS指令対応製品です。

 

 

<「ケミカライザー AceⅡ KPシリーズ」の特長>

●高精度赤外干渉フィルタ採用により、測定精度の向上、ブランク補正頻度(回数)の減少。

●検量線作成時の緻密化により測定精度の向上。

●ベルチェ式冷却器、液温度コントローラー内臓により、測定温度範囲の拡大、操作性の

向上。

●サンプリングBOX標準装備により、設置作業性が向上(洗浄装置との接続の簡略化)。

●RoHS対応品です。

※いずれも当社ケミカライザープロ-2との比較

●ケミカライザー AceⅡシリーズでは対象薬液によって型式コードを設定しております。

型式コード

対象薬液

KP-21-A-R

NH4OH/H2O2

KP-22-A-R

HF

KP-23-A-R

H2SO4/H2O2

KP-24-A-R

HF/H2O2

KP-25-A-R

HCl/H2O2

KP-26-A-R

KOH/H2O2

KP-27-A-R

H3PO4

KP-28-A-R

HF/HCl

KP-29-A-R

HCl/FeCl3

KP-2B-A-R

BHF(HF/NH4F)

KP-20-A-R

上記薬液以外にも対応しておりますので、お気軽にお問合せください

 

<「ケミカライザー AceⅡ KPシリーズ」の用途例>

*半導体製造工程における洗浄プロセスでのSC-1,SC-2、SPMなどの薬液管理

*半導体製造工程におけるエッチングプロセスでのフッ酸、燐酸、HPM、BHFなどの薬液

管理

*半導体・液晶パネル製造工程におけるエッチング用燐硝酸酢酸、フッ酸硝酸酢酸濃度

*ウェハー製造工程におけるアルカリ、活性剤などの薬液管理

*液晶パネル製造工程におけるMEA、BDG、DMSO、等の剥離液、エッチング液濃度測定

*太陽電池製造時の洗浄プロセスでの薬液管理

*太陽電池製造時のエッチングプロセスでのフッ硝酸等薬液管理

*燃料電池(ダイレクトメタノール型)のメタノール濃度測定

*各種洗浄、殺菌用の酸、アルカリ、過酸化水素の濃度

*液晶パネル製造工程における有機剥離液中の水分、成分濃度、レジスト濃度

*プリント基板剥離液濃度

*金属酸化用過酸化水素濃度

*有機剥離液の劣化度測定

*半導体・液晶パネル製造工程におけるエッチング用燐硝酸酢酸、フッ酸硝酸酢酸濃度

*日本酒、食用酢のアルコール、酢酸、糖濃度

*DMAC、NMPなど紡糸、製膜原料液濃度

*液晶パネル製造工程の銅エッチング工程における銅、過酸化水素、酸の濃度測定

*各種洗浄、殺菌用の酸、アルカリ、過酸化水素の濃度

*IPA中微量水分、有機剥離液中の微量水分、成分濃度

 

 

豊富な製品群による高いレベルのセンシングが、工程を最適化。

製品の品質向上、コストダウンを強力にサポートします。

 

ご相談、カタログのご請求などクラボウまでお気軽にお問い合わせ

ください。

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