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分析、故障解析、信頼性試験、試料作製、レーザ加工、再現実験 株式会社クオルテック

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  • TDDB(酸化膜破壊)試験

    自動車 電子・半導体 試験・分析・測定
    ■TDDB試験の概要 半導体の酸化膜に電圧を継続的にかけていると、時間が経つにつれ酸化膜の破壊が発生します。 これを酸化膜破壊(TDDB: Time Dependent Dielectric Breakdown)といい、半導体の寿命や信頼性を考え…
  • 解析技術:静電気破壊 〜SiC-MOSFET/ロックイン発熱解析/プラズマFIBの活用〜

    自動車 電子・半導体 試験・分析・測定
    近年SiCやGaNといった次世代パワー半導体の開発・実用化が進み、故障解析技術に対する要求が高まっています。今回はSiC-MOSFETを例として、IEC61000-4-2に倣って静電気破壊試験を行った破壊品の解析事例をご紹介しま…
  • 非破壊解析技術 C-SAM(2D〜3D)

    電子・半導体 試験・分析・測定
    超音波顕微鏡では、2次元像(C-Scan)が標準的であるが、より視覚的・立体的に状態を捉えるために3次元化を目指しています。 ■時間軸解析(C-Scan)超音波顕微鏡では、主にA-Scanデータを基にして、外観上では確認…
  • プラズマFIB-SEMの加工 〜分析性能と実例〜

    分析・故障解析  /  鉄/非鉄金属 電子・半導体 試験・分析・測定
    従来のGaタイプのFIBと比べて大電流値での加工が可能になったため、数十μmの通常加工はもちろん500μmの大面積加工が可能です。 ■SiCを用いたGa-FIBとプラズマFIBの加工速度比較 Ga-FIBは5時間以上加工してもSiCの断…
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