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1/31【Live配信(リアルタイム配信)】 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と 微細化・高解像度化に向けた応用技術、今後の展望

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電気・電子・半導体・通信  / 2021年11月24日 /  化学・樹脂 電子・半導体
イベント名 【Live配信(リアルタイム配信)】 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と 微細化・高解像度化に向けた応用技術、今後の展望
開催期間 2022年01月31日(月)
10:30~16:30
※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名 ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナー
会場の住所 東京都 ※会場開催はございません。
お申し込み期限日 2022年01月30日(日)16時
お申し込み受付人数 30  名様
お申し込み

【Live配信(リアルタイム配信)】
リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と
微細化・高解像度化に向けた応用技術、今後の展望

 

~フォトリソグラフィプロセスの理解とレジスト材料の開発指針~
~EUVリソグラフィに向けた技術課題と開発動向、今後の課題~

 

微細化・高解像度化が求められるリソグラフィ技術とレジスト材料について徹底解説!

これまでの技術・材料事例から技術概要を理解し、
これから求められる課題に向けた技術開発やトラブル対策への考え方を学びましょう! 

 

講師

 

神奈川大学 工学部 講師 鴨志田 洋一 氏
【専門】

リソグラフィ材料、機能性高分子、高分子合成、知的財産権、コーポレートガバナンス

 

 受講料(税込)

 

49,500円 ( E-Mail案内登録価格 46,970円 )※資料付 

   定価:本体45,000円+税4,500円
   E-Mail案内登録価格:本体42,700円+税4,270円

キャンペーン!2名同時申込みで1名分無料(1名あたり定価半額の24,750円

  

※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料( 定価 35,200円/E-Mail案内登録価格 33,440円 )

 定価:本体32,000円+税3,200円
 E-Mail案内登録価格:本体30,400円+税3,040円
1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
※他の割引は併用できません。

 

 趣旨

 

  今日の情報化社会は、マイクロエレクトロニクス(ME)の発展に支えられている。MEは、1950年代に集積回路(IC)が開発されて以来、大規模集積回路(LSI)のパターンの微細化、高集積化、すなわちメモリー大容量化、システムLSIの高性能化の方向で、一貫して発展してきている。あわせて情報処理の高速化、低価格化も実現してきた。今後もメモリーの大容量化およびシステムLSIの高性能化の流れは止まりそうにないと予測されている。このような流れの中で、フォトリソグラフィの進歩はフォトレジストなどの材料開発が中心軸となってMEの発展に寄与してきたが、これらの材料をうまく使いこなす露光装置を中心としたハードウェア、プロセス技術の進歩も著しいものがある。

 レジスト材料の開発はパターンの微細化、高解像度化が中心で、これは主として露光に用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。ここまではさまざまな選択肢、さまざまな試行など、紆余曲折はあったものの、結果として振り返ってみれば、それまでの技術の延長線上で進んできている。1970年代から40年余りの短い時間に次のような大きな技術変革を経験している。

 1) コンタクトアライナーによるリソグラフィ技術の確立
 2) 投影露光方式の導入
 3) 化学増幅型レジスト/エキシマレーザ光源の採用
 4) EUV光源の採用など

 それぞれのステップで多くのイノベーションが実現され課題を克服してきたわけである。ここでは、これまでの技術・材料開発の事例をまとめ、今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用への指針とする。あわせて、日本の今後の半導体関連産業の在り方についても考察する。

 

 プログラム

 

<得られる知識・技術>

レジスト・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化・レジストの高解像度化などの高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程を知ることができる。技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用が可能となる。

 

<対象>

研究開発、製造技術業務にたずさわって2~3年の若手技術者の方から中堅技術者、リーダー

 

<講演内容>

1.技術パラダイムシフトと半導体集積回路
 1-1 科学技術の発展
 1-2 技術パラダイムシフト
 1.3 マイクロエレクトロニクス(ME)と社会
 1.4 MEの黎明期とフォトレジスト

2.フォトレジストの本流
 2-1 ゴム系ネガ型フォトレジスト
  (1) リソグラフィプロセスの確立
  (2) 基本的構造及び製造法
 2-2 ノボラック系ポジ型レジスト
  (1) 基本的組成
  (2) マトリックス樹脂製法、感光性化合物
  (3) レジストの透明性と解像度
  (4) i-線レジスト
  (5) リソグラフィプロセスでの化学と工程管理
  (6) レジストの溶剤と環境への影響
  (7) 高性能化への工夫と新たなイノベーション

3.フォトレジストの裏街道
 3-1 X線レジスト
 3-2 Top Surface Imaging:DESIRE
 3-3 Deep UVリソグラフィ
  (1) 黎明期のレジスト
  (2) 化学増幅型レジスト
  (3) 光酸発生剤

4.エキシマレーザリソグラフィ  
 4-1 KrFレジスト
  (1) エキシマレーザリソグラフィ実現への課題
  (2) 光源・光学系の課題
  (3) 化学増幅型レジストの課題
  (4) 材料からの改良
  (5) プロセス面からの改良
  (6)   実用化されたレジスト材料
 4-2 ArFレジスト
  (1) ArFレジスト実現への課題
 4-3 液浸リソグラフィ

5.EUVリソグラフィ
 5-1 光源・露光機の開発
 5-2 レジスト開発

6.今後の展望
 6-1 現像プロセスの考え方 

7.フラットパネルディスプレイ材料

8.実装材料(ポリイミド)

9.効率的にイノベーションを創出するために

10.まとめ


  □ 質疑応答 □

  

【ZoomによるLive配信】

・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。

 PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。

・申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。

・事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、

 接続可能か等をご確認ください。

・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。

・セミナー中、講師へのご質問が可能です。 

  

<配布資料>

製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
※開催日の4~5日前に発送します。
 開催前日の営業日の夕方までに届かない場合はお知らせください。
※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、
 セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。

 

━━━━━━━━━━━━◆キャンペーンについて◆━━━━━━━━━━━━━━━━━━

≪お申し込み方法≫

 お申し込みページ一番上の連絡事項欄に「2名同時申込み」希望の旨と、

 2人目の受講者様の情報(お名前・メールアドレスは必須)をご入力ください。

 住所等が申込者様と同一の場合は、省略いただいて結構です。

・2名様ともS&T会員登録をしていただいた場合に限ります。詳細は別途ご連絡いたします。

・同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。

・3名様以上でお申込みの場合、3人目以降は定価の半額で受講できます。

・受講券・請求書は、代表者にPDFデータにてお送りいたします。

・請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。ご希望の場合はお知らせください。

・他の割引は併用できません。

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○お申し込み後、サイエンス&テクノロジーより確認のご連絡を差し上げます。

○受講料は、銀行振込(原則として開催日まで)にてお願いします。

会場受講の場合に限り、当日に現金、またはカードでのお支払いが可能です。
会場でクレジットカード支払いの場合は、通信欄に「会場でカード支払い」をご入力下さい。

○お申込み後、ご都合が悪くなった場合は代理の方のご出席も可能です。

やむなくキャンセルされる場合は、下記のキャンセル規定で承ります。

◇キャンセル規定◇

開催日から逆算(営業日:土日・祝祭日等を除く)いたしまして、

・開催7日前以前でのキャンセル: キャンセル料はいただきません

・開催3~6日前でのキャンセル: 受講料の70%

・開催当日~2日前でのキャンセル・欠席: 受講料の100%

※受講料入金後での7日前以前のキャンセルについて、返金の手続きが発生した場合の振込手数料はお客様負担とさせていただきます。

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※お申し込み詳細についてはQ&Aにも掲載しております。

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