半導体やディスプレイの生産工程においては、多量の超純水が使用されています。

洗浄工程などで使用される超純水は最終製品の収率に影響することから、その純度を担保するために比抵抗、TOCや溶存酸素といった測定がリアルタイムで実施されています。

本セミナーではそれら超純水管理に欠かせない最新の測定技術を紹介致します。

• オンライン開催
• 【開催日時】2023/11/16　11:00（45分）
  

  ※開始10分前、10時50分から入室可能です

受講対象者 - こんな方におすすめのオンラインセミナーです

• 半導体、ディスプレイ製造用超純水管理に携わっている方
• 半導体、ディスプレイ産業に水処理システムを構築している方
• 純水、超純水管理の最新技術に携わっている方

このオンラインセミナーで得られるベネフィットは？

• 半導体、ディスプレイ製造用超純水管理における最新技術情報の取得
• 半導体、ディスプレイ産業用水処理システムへの付加価値情報の取得

お申し込み、利用システムについて

• 利用システム：Microsoft Teams
• Microsoft Teamsはアプリケーションのインストール不要なWeb版がございます。
• 推奨ブラウザ：Chrome またはEdge
• 申込時、7日前、1日前に視聴用URLをご案内します。
• 推奨ブラウザから視聴用URLをクリックしてください。開始10分前から入室可能です。
• 参加費無料
• ※ご注意ください
• 同業他社様および研究開発の業務に携わらない方のご参加はご遠慮いただく場合がございます。
• Emailアドレスおよびご登録いただく情報は、ご所属先の情報をご入力いただけますようお願いいたします。