試験設備一覧

走査型X線光電子分光分析装置（μ-XPS・μ-ESCA）

アルバック・ファイ
Quantera SXM

試料表面の極薄い層（数nm）の元素分析（水素、ヘリウム以外）、半定量分析（検出限界値～0.1at%程度）および化学結合状態分析ができます。

フーリエ変換赤外分光光度計
（FT-IR）

日本分光
FT/IR-6300FV、
IRT-7000

フーリエ変換赤外分光光度計は樹脂やゴム、油、接着剤などの有機化合物の構造を解析する分析装置の一つで、異物混入や構造部材の材質違いなど製品トラブルの初期段階で目星をつけるために利用されます。

微小部蛍光X線分光装置（XRF）

SIIナノテクノロジー
SEA6000VX HSFinder

蛍光X線（XRF）分析装置は、試料にX線を照射し発生する蛍光X線を測定することで元素の確認（定性）や、検出された各元素のピーク強度を理論計算（FP法）することで大まかな含有量（半定量）を得ることができる装置です。

金属顕微鏡

オリンパス
BX51

光を上から照射して、その反射光線の反射程度により表面状態を調べる顕微鏡です。主として金属材料の研磨面を観察します。

デジタルマイクロスコープ

キーエンス
VHX-600

実体顕微鏡と金属顕微鏡の機能を一台に集約し計測機能も装備した光学顕微鏡。

マイクロフォーカスX線検査装置（μF-X線）

メディエックステック
MXT-160UU

物質によるX線の透過率の差を利用して、微小な部品、BGA、CSP、デバイスなどの内部に存在する亀裂や欠陥を非破壊で観察することができます。

硬さ試験機

金属材料やセラミックスの機械的特性である硬さを測定します。

恒温恒湿槽

楠本化成
（ETAC）

TH411HA
（2台）

温度：-40～+150℃

湿度：20～98%RH

600×600×500

恒温恒湿槽

楠本化成
（ETAC）

FX424P

温度：-40～+150℃

湿度：20～98%RH

700×950×700

超低温
恒温恒湿槽

エスペック

PSL-2KPH

温度：-70～+150℃

湿度：20～98%RH

600×850×600

恒温恒湿槽

エスペック

PL-3FPW

温度：-40～+100℃

湿度：20～98%RH

※長時間湿度制御 不可

600×850×800

恒温槽

エスペック

PVH-110M

室温：+10～+300℃

450×600×450

高度加速
寿命試験装置

楠本化成
（ETAC）

PM420

温度：+105～+162℃

湿度：75～100%RH

圧力：0.0196～0.392MPa

270×300×300

冷熱衝撃
試験機

楠本化成
（ETAC）

TS100W

高温：+60～+200℃

低温：-65～-10℃

370×330×400

冷熱衝撃
試験機

楠本化成
（ETAC）

NT1050W

高温：+60～+200℃

低温：-65～0℃

370×500×400

スペクトラム
アナライザ

キーサイト

N9010A

周波数範囲：10Hz～7GHz

自動測定
ソフトウェア

東陽テクニカ

EP5-RE

EP5-CE

放射ノイズ測定対応

雑音端子電圧測定対応

アンテナ

シュワルツベック

BBA9106

UHALP9107

BBHA9120D

バイコニカルアンテナ
30MHz～300MHz

ログペリオディックアンテナ
300MHz～1GHz

ホーンアンテナ
1GHz～6GHz

擬似電源
回路網

協立電子工業

TNW-242F2

周波数範囲：9kHz～30MHz

EMI/EMS測定用小型電波暗室

TDK

周波数範囲

：30MHz～6GHz

室内寸法（m）

：6.9m（長さ）
×2.9（幅）
×2.9（高さ）

供試体用電源

：単相100V、115V、
200V、240V

インピーダンス安定化回路網（ISN）

TESEQ

ISN T8

ISN T8
-Cat6

周波数範囲

：150kHz～80MHz

ライン数

：1～4非スクリーン
対称ペア

伝送速度

：カテゴリ3及び5

周波数範囲

：150kHz～80MHz

ライン数

：1～4非スクリーン
対称ペア

伝送速度

：カテゴリ6

パルスイミュニティ試験器

EM-TEST

NX5

EFT/B試験

ピーク電圧

：±200V～±4.4 5.5kV

バースト

：10ms～9999ms

結合出力

：電源、クランプ

伝導性妨害イミュニテｨ試験

SCHAFFNER

NSG2070

周波数範囲

：100kHz～250MHz

出力電圧

：～10V

結合減結合回路網：M1,M2-16A,
M3-16A,M3-32A,S1-50Ω、
S1-75Ω,EMクランプ

静電気試験器

ノイズ研究所

ESS-S3011＆GT-30R

出力電圧：0.2kV～30kV

放電用コンデンサ：150pF

放電抵抗：330Ω

放電間隔：0.05s～99.9s

放電回数：1回～60000回

電磁波妨害源探査装置

ノイズ研究所

EPS-M1

測定エリア：210mm×148mm

測定周波数範囲：30MHz～3GHz

測定分解能：1mm×1mm

測定結果の3D表示可能

シールドルーム

ノイズ研究所

SH-H1313

シールド性能
80dB以上（100kHz～1GHz）

外寸
3.5m（長さ）/一部2.5m
×2.6m（幅）×2.3m（高さ）

電源高調波電流測定器

Voltec
NF回路設計ブロック

PM3000ACE
ES2000S,
ES2000B,
RIN4152,
As-517

IEC61000-3-2 A14対応

電源容量：単相4kVA

フリッカ測定/電圧ディップ、
瞬時停電、電圧変動試験可能

ノイズ
シミュレータ

ノイズ研究所

INS-4040

出力電圧

：最大4kV

立上がり

：1ns以下

パルス幅

：10ns及び
50ns～1000ns

電界放出型走査電子顕微鏡
（FE-SEM/EDS）

日本電子株式会社

JSM-7800F　Prime

分解能

：0.7nm（15kV）,
0.7nm（1kV）

試料サイズ

：最大100mm径

株式会社日立ハイテクノロジーズ

S-4800

分解能：1.0nm（15kV）
1.4nm（1kVリターディングモード）

試料サイズ：最大100mm径

分析透過電子顕微鏡
（FE-TEM/EDS）

株式会社トプコンテクノハウス

EM-002BF

分解能

：0.10nm

観察モード

：明視野像、暗視野像、
高分解能像、STEM像

分析透過電子顕微鏡
（FE-TEM/STEM/EDS）

Thermo Scientific

Talos F200X

加速電圧

：200kV（標準）、
120kV、80kV

分解能

：TEM 0.12nm（200kV）
STEM 0.16nm（200kV）

構造解析用集束イオンビーム装置
（FIB-SEM/EDS/EBSD）

日本エフイー・アイ株式会社

Scios LoVacシステム

SEM分解能

：1.0nm（15kV）、
1.6nm（1kV）

検出器

：二次電子検出器
反射電子検出器

集束イオンビーム装置
（FIB-SEM/EDS）

エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社

XVision200TB

SEM分解能

：3.0nm（5kV）

検出器

：二次電子検出器
反射電子検出器

イオンミリング装置

日本電子株式会社

IB-19520CCP

断面・平面イオンミリング（JEOL CP）

クロスセクションポリッシャー（CP）

加速電圧

：1kV～8kV

冷却温度

：液体窒素冷却、
温度調節機構あり

イオンミリング装置

Gatan社

Ilion+

断面・平面イオンミリング（GATAN）

加速電圧

：1kV～6kV

冷却温度

：液体窒素冷却、
温度調節機構あり

精密機械研磨装置

ライカ社

EM TXP

最小ステップ：0.5μm

最大加工面積：5mm×5mm程度

ウルトラミクロトーム

RMC社

MT-X

切片厚：数μm～数十nm

最大切削面積：5mm×5mm程度

低エネルギーイオンミリング装置

リンダ社

Gentle Mill　IV5

加速電圧

：100V～2kV

試料サイズ

：3mmφメッシュ、
FIB用各種メッシュ

マニュピレーター

ナリシゲ

SISA-30TI-2

ピックアップ用のマニュピレーター機能を有した顕微鏡装置です。

レーザーマーカー

HOYA CANDEO OPTRONICS（株）社

LR-2100ST

レーザー波長

：532nmと355nmの2種類（切替式）

対物レンズ

：10×（観察用）、
20×、50×、100×