広い面積を均一に加熱。高速昇温・高速冷却できる赤外線加熱装置［米倉製作所］

No.1330　2011年11月4日

●　広い面積を均一に高速昇温・高速冷却

赤外線加熱装置をはじめ、各種高温観察装置を開発・製造する株式会社米倉
製作所様。同社では、新たに「平板型赤外線加熱装置」を開発。大面積の試
料でも均一に高速かつ精度よく加熱することが可能になりました。


　　※※※※※※※※※【 ここにフォーカス 】※※※※※※※※※

　　　広い面積を均一に高速昇温・高速冷却。雰囲気調節も可能。
　　　　　　　半導体のアニール、LEDのCVDなどに最適

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■　直径6～12インチの試料も均一に加熱
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直径50ミリ以上の面積の化合物半導体やシリコンウエハーなどは、均一に加
熱する必要があります。大面積になると均一に加熱することが難しくなりま
すが、それを実現するのが同社の「平板型赤外線加熱装置」です。
本装置は密閉チャンバーにより、雰囲気下で高速かつ高精度に加熱できます。
大きいサイズの試料でも均一に加熱。半導体や、LED、シリコンウエハーなど
化合物半導体の熱処理、高温・短時間でのアニール処理（RTA）に最適です。
ご要望の加熱面積、雰囲気に合わせてカスタマイズします。


■　高温試験・観察装置のユニットや大型高温観察装置も製造
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同社では、その場観察用の「赤外線加熱装置」、クリーン・クリアーなその
場観察ができる「顕微鏡用高温・低温観察ステージ」などのユニットも取り
扱っています。
さらに、チップ部品などの微小実装部品から、基板（□100ミリ）・コネク
ターなどのその場観察を実現する「大型高温観察装置」も製造。


サンプルの加熱テストや、横浜営業所でのデモも行っています。
「平板型赤外線加熱装置」やそのほかの加熱観察装置について、ご質問・
ご要望などお気軽にお問い合わせください。