【Live配信 or アーカイブ配信】EUVレジスト/メタルレジストの要求特性、最新技術動向と課題、対策

＜セミナー　No.603406＞

EUVレジスト/メタルレジストの

要求特性、最新技術動向と課題、対策

★EUVレジストの要求特性と現状の課題、その対策

　注目のメタルレジスト、メタルドライレジストの開発状況とその可能性！

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■講師

Eリソリサーチ　代表　遠藤 政孝 氏

■聴講料

１名につき５５，０００円（消費税込・資料付き）

１社２名以上同時申込の場合１名につき４９，５００円（税込）

大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくはお問い合わせください。

■セミナーの受講について
・下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
　→ https://zoom.us/test
・開催数日前または配信開始日までに視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。
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・出席確認のため、視聴サイトへのログインの際にお名前、ご所属、メールアドレスをご入力ください。
　ご入力いただいた情報は他の受講者には表示されません。
・開催前日または配信開始日までに、製本したセミナー資料をお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。
　お申込みが直前の場合には、開催日または配信開始日までに資料の到着が間に合わないことがあります。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
　複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。
・アーカイブ配信セミナーの視聴期間は延長しませんので、視聴期間内にご視聴ください。

プログラムあああああああああああああああああああああああああああああああああああああ

【この講座で学べること】

・EUVレジストの基礎

・EUVレジストの要求特性と課題・対策

・EUVレジストの最新技術動向

・EUVメタルレジストの基礎と、課題・対策、開発動向

・EUVドライレジストプロセスの基礎と、課題・対策、開発動向

・EUVレジスト、EUVメタルレジストの技術展望、市場動向

【講座概要】

メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在先端の量産工程でEUVが用いられ、EUVレジストは開発が加速されている。

本講演では、最新のロードマップを紹介した後、EUVリソグラフィの概要を述べ、EUVレジストの基礎、要求特性、課題と対策、最新技術動向について解説する。注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセスについて詳しく解説する。おわりにEUVレジスト、EUVメタルレジストの今後の技術展望、市場動向についてまとめる。

１．ロードマップ

　1.1 リソグラフィ技術、レジストへの要求特性

　1.2 微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢

　1.3 最先端デバイスの動向

２．EUVリソグラフィの概要

　2.1 露光装置

　2.2 光源

　2.3 マスク

３．EUVレジストの基礎

　3.1 EUVレジストの設計指針

　3.2 化学増幅型EUVレジストの反応機構

　3.3 EUVレジストプロセス

　　3.3.1 アンダーレイヤー

４．EUVレジストの要求特性

　4.1 化学増幅型EUVレジスト用ポリマー

　4.2 化学増幅型EUVレジスト用酸発生剤・クエンチャー

　　4.2.1 光分解性クエンチャー

５．EUVレジストの課題と対策

　5.1 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ

　5.2 ランダム欠陥（Stochastic Effects）

　5.3 EUVレジストの開発動向

　　5.3.1 ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト

　　5.3.2 ネガレジストプロセス

６．EUVメタルレジスト

　6.1 EUVメタルレジスト用材料

　6.2 EUVメタルレジストの反応機構

　6.3 EUVメタルレジストの性能と開発動向

７．EUVメタルドライレジストプロセス

　7.1 EUVメタルドライレジストプロセス用材料

　7.2 EUVメタルドライレジストプロセスの反応機構

　7.3 EUVメタルドライレジストプロセスの性能と開発動向

８．EUVレジスト、EUVメタルレジストの技術展望、市場動向

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