【Live配信セミナー7/8】『スパッタリング』の基本と考え方，膜の作り方 ， その応用

＜セミナー　No.607203＞

【Live配信 or アーカイブ配信】

『スパッタリング』の基本と

考え方，膜の作り方 ， その応用

★スパッタリング率の測定法は？
★圧力と薄膜の構造の関連性は？
★薄膜作成時の基板温度上昇の制御法とは？
★真空装置内のアウトガスを低減するには？
★ターゲットの作り方，選び方，使い方は？
★プラズマ電源使用時の動作不安定の理由とは？

　
■　講師
(有)アーステック 代表取締役 博士(工学) 　小島 啓安 氏　 【名古屋大学 客員教授】

【経歴】 1977年 キヤノン(株)にて半導体露光装置用光学薄膜プロセス， 膜設計の開発に従事
　　　　　　 1982年 旭硝子(株)にて建築・自動車用硝子スパッタ，膜開発に従事
　　　　　　 2003年 (有)アーステックを設立
　　　　　　 2009年8月より 名古屋大学 客員准教授を経て客員教授

　
■　開催要領
日時：
【Live配信】２０２６年７月８日(水)　１０：３０～１６：３０　
【アーカイブ（録画）配信】２０２６年７月１７日まで受付（視聴期間：７月１７日～７月２７日まで）
会場：ZOOMを利用したLive配信またはアーカイブ配信　※会場での講義は行いません
聴講料：1名につき５５ ,０００円（消費税込，資料付）
〔１社２名以上同時申込の場合１名につき４９，５００円（税込）〕
〔大学，公的機関，医療機関の方には割引制度があります。詳しくはお問い合わせ下さい〕

■申し込み時のお願い

本セミナーは【Live版】か【アーカイブ版】の何れか，選択制となります。原則として申し込み後の変更は出来ませんのでご留意願います。ご不明の際は本セミナーの企画担当までお問合せ願います。

■セミナーの受講について

・下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
　→ https://zoom.us/test
・開催数日前または配信開始日までに視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。
　セミナー開催日時またはアーカイブ配信開始日に、視聴サイトにログインしていただきご視聴ください。
・出席確認のため、視聴サイトへのログインの際にお名前、ご所属、メールアドレスをご入力ください。
　ご入力いただいた情報は他の受講者には表示されません。
・開催前日または配信開始日までに、製本したセミナー資料をお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。
　お申込みが直前の場合には、開催日または配信開始日までに資料の到着が間に合わないことがあります。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
　複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。
・アーカイブ配信セミナーの視聴期間は延長しませんので、視聴期間内にご視聴ください。

プログラム                                                                                                     
【講座の趣旨】
　 スパッタ技術は，再現性が良く大面積にも均一性があり，低温においても密着性良 く成膜出来る重要な技術であり，フィルム基板，プラスチック基板、ガラス基板など 多くの製品に使われている。そのため，生産現場における利用も増加し，膜の精密制 御、コストダウン，密着性の向上，自動化の推進等様々なニーズや課題が生じてい る。スパッタの原理を確認し，さらに最新のカソード技術を紹介しながら，現場の品 質向上についても解説する。

【セミナープログラム】
１．スパッタリングの理解とノウハウ
　　1.1 スパッタリング現象とは
　　1.2 蒸着膜との違い
　　1.3 スパッタリング率　
　　1.4 平均自由行程とは
　　1.5 圧力と薄膜の構造の関係
　　1.6 入射エネルギーと測定法
　　1.7 スパッタ膜のダメージと低ダメージのポイント
　
２．スパッタでの重要な要素技術
　　2.1 DC，RF，パルス電源の原理,違い
　　2.2 パルス電源のメリット
　　2.3 各種マグネトロン方式による膜質改善
　　2.4 各種カソードの特徴と使う時の注意点
　　2.5 ロータリーカソードの長所，短所
　　2.7 化合物膜の作製法　
　　2.8 ターゲットの利用効率を上げるポイント
　　2.9 ターゲットを長時間使う際の注意点

３．反応性スパッタ
　　3.1 反応性スパッタのメリット
　　3.2 ヒステリシス現象とは？
　　3.3 インピーダンス制御
　　3.4 遷移領域を使った高速成膜
　　3.5 成膜速度を上げる方法，種類
　　3.6 アーキングを減らすには？
　　3.7アノード消失とは？
　　3.8 大面積での膜厚均一化と評価
　　3.9プラスチックフィルム基板などの低温成膜

４．最近話題の用途
　　4.1 透明導電膜(タッチパネル，次世代ディスプレイなど)
　　4.2 光学薄膜(低温製膜，ハイバリア膜，光学レンズなど)
　　4.3 省エネ用膜(太陽光パネルなど)
　　4.4 装飾膜(金属色調フィルムなど)

５．技術トピックス
　　5.1 HIPIMS技術（高電力スパッタ技術）
　　5.2 シミュレーション技術 5.3 ガスフロースパッタ

６．各種トラブルシューティング対策
　　膜剥がれ，密着性改善など

【質疑応答】

※受講者の皆様の抱える疑問点や問題点について，セミナー開催3日前

までに 「事前リクエスト用紙」 （請求書に同封）や 「Eメール」 を御寄せ

頂けましたら，講演中に対応させて頂きます。

※セミナーの詳細についてお気軽にお問い合わせください。

※なお，「２名以上同時にお申込される場合、２人目以降の方の情報は

【弊社への連絡事項がございましたら、こちらにお書きください】欄に

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