【書籍】半導体プラズマプロセス技術の制御と計測・モニタリング（No.2357）

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半導体プラズマプロセス技術の

制御と計測・モニタリング

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-可視化・異常検知・高精度プロセス最適化-

◎成膜・エッチングプロセスの最適化を実現するには？

◎プラズマを可視化し、電子・イオンの制御につなげる技術を詳解！

◎放電・反応性プラズマの高精度プロセス技術を徹底解説！

  ■　目　次                                                                                                           

第1章　プラズマの基礎、発生装置の概要と生成・制御技術
第2章　真空環境の設計技術
第3章　プラズマの計測技術、プロセス評価・解析技術
第4章　プラズマプロセスにおけるモニタリング、予知保全技術
第5章　プラズマを利用した成膜技術とプロセスの低温化、分析技術
第6章　EUVリソグラフィ用の光源と装置開発
第7章　プラズマエッチング・アッシングのプロセス技術
第8章　プラズマを利用した半導体の表面処理技術と洗浄技術

■　本書ではこんな情報を掲載しています                           　　                                  

・放電プラズマ、反応性プラズマを制御するための電子密度・電子温度・電力制御技術、ガス供給のポイント

・真空環境を設計するためのガス特性・排気系の設計技術・計測技術・トラブル対策を体系化

・発光分光法、四重極質量分析法、探針法によるプラズマ状態の計測技術

・活性粒子計測、異常放電検知、イオンエネルギー分布、プラズマ中イオン種の計測、ラジカル測定とモニタリング技術

・プラズマCVD・ALDプロセスの低ダメージ、低温・高速成膜技術、膜密度・膜厚の制御、密着性向上

・スパッタ成膜技術の膜厚コントロール技術、薄膜の組成、結晶性、電気特性、機械特性制御

・エッチングプロセスの高速化、ダメージの低減とプラズマ耐性材料の開発

・プロセス中に発生するパーティクルの発生メカニズム、検出と対策技術

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