製品・技術
SEM用イオンミリング装置 SEM Mill MODEL1061
最新式のSEM用イオンミリング／ポリッシングシステムです。コンパクトで精密な装置構成で、あらゆる材質・用途に対して、高品質で再現性の高いSEM試料の作成が可能です。
イオンソースの1kV以下のパフォーマンスが高く、 仕上げ加工でダメージレスな観察領域を平面の広範囲に獲得できます。
半導体業界、高分子材料系企業からの問い合わせ多数。
半導体業界はメモリの分野で中心へのテーパー穴開けとして広く導入されています。
特長
- ビーム径の調整が可能
- 0°～10°の範囲でミリング角度を連続的に変更
- 赤色レーザーにより試料の高さ（厚さ）を自動検知
- 平面試料、断面試料の両方に対応
- 液体窒素による試料の冷却（温度可変）
- 試料のロッキング（首振り）及び回転運動
- イオンミリング
- イオンミリングは、電子透過性が得られる厚さまで試料を薄く削る技術です。不活性ガスのアルゴンをイオン化し、試料表面に向けて加速照射します。この際の衝突イオンの運動量移行を利用し、試料表面の物質を自在にスパッタ除去します。
導入実績
- 長岡技術科学大学
- 東京エレクトロン宮城株式会社
- 他 半導体メーカー多数
技術資料（SEM Millを使ったアプリケーション例）
-
[Cuのバルクサンプルでの断面作製]
- 市販の純銅製板材の機械研磨面のSEM像
- SEMMillをつかって断面作製後のSEM/BSD像を取得
- ※JFEテクノリサーチ様提供アプリケーションデータ
-
[市販の亜鉛メッキ鋼板サンプルでの断面作製]
- 市販の亜鉛メッキ鋼鈑材の機械研磨面のSEM像
- SEMMillをつかって断面作製後のSEM/BSD像を取得
- ※JFEテクノリサーチ様提供アプリケーションデータ
仕様
| E.A. Fischione Instruments社製 SEM用イオンミリング装置 SEMミル モデル1061 | |
|---|---|
| イオン源 | 2つのTrueFocusイオン源 |
| ビームエネルギー：100eV～10keV | |
| ビーム電流密度：～10mA/cm2 | |
| 試料ステージ | ミリング角度：0°～10° |
| 赤色レーザーにより試料の高さを自動検知 | |
| 360°の試料回転 | |
| 試料揺動 | |
試料サイズ
|
|
| ロードロックによる素早い試料の出し入れ | |
| 試料ホルダー | 平面試料用ホルダー |
| 断面試料用ホルダー及びローディングステーション（オプション） | |
| 真空／不活性ガス 封入移動カプセル（オプション） | |
| 試料の冷却 （オプション） |
内部デュワーによる液体窒素誘導冷却 |
| 自動温度インターロック | |
| デュワーサイズ
標準タイプ：3～5時間の冷却 |
|
| ユーザーインターフェイス | 10インチタッチスクリーン |
| シグナルタワー（オプション） | |
| 装置サイズ | 重量：73kg |
| 寸法：幅660mm×高さ330mm（キャビネット上端まで）×奥行き520mm | |
| 電源 | 電圧：100V, 50/60Hz |
| 消費電力：720W | |
対応する規格
- CE規格
- ISO14001
デモ機について
- 国内デモ機1台を所有しており、御購入検討される御客様に1カ月～2カ月無償で貸し出ししております。 デモ機の仕様は本体+長時間冷却オプションに加えて、真空トランスファーカプセル、断面ローディングステーションもデモ用オプション品がございます。
カタログダウンロード
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