SEM用イオンミリング装置 SEM Mill MODEL1061

最新式のSEM用イオンミリング／ポリッシングシステムです。コンパクトで精密な装置構成で、あらゆる材質・用途に対して、高品質で再現性の高いSEM試料の作成が可能です。

イオンソースの1kV以下のパフォーマンスが高く、 仕上げ加工でダメージレスな観察領域を平面の広範囲に獲得できます。

半導体業界、高分子材料系企業からの問い合わせ多数。
半導体業界はメモリの分野で中心へのテーパー穴開けとして広く導入されています。

特長

• ビーム径の調整が可能
• 0°～10°の範囲でミリング角度を連続的に変更
• 赤色レーザーにより試料の高さ（厚さ）を自動検知
• 平面試料、断面試料の両方に対応
• 液体窒素による試料の冷却（温度可変）
• 試料のロッキング（首振り）及び回転運動

イオンミリング

イオンミリングは、電子透過性が得られる厚さまで試料を薄く削る技術です。不活性ガスのアルゴンをイオン化し、試料表面に向けて加速照射します。この際の衝突イオンの運動量移行を利用し、試料表面の物質を自在にスパッタ除去します。

導入実績

• 長岡技術科学大学
• 東京エレクトロン宮城株式会社
• 他 半導体メーカー多数

技術資料（SEM Millを使ったアプリケーション例）

[Cuのバルクサンプルでの断面作製]

• 市販の純銅製板材の機械研磨面のSEM像
• SEMMillをつかって断面作製後のSEM/BSD像を取得
• ※JFEテクノリサーチ様提供アプリケーションデータ

[市販の亜鉛メッキ鋼板サンプルでの断面作製]

• 市販の亜鉛メッキ鋼鈑材の機械研磨面のSEM像
• SEMMillをつかって断面作製後のSEM/BSD像を取得
• ※JFEテクノリサーチ様提供アプリケーションデータ

仕様

対応する規格

• CE規格
• ISO14001

デモ機について

国内デモ機1台を所有しており、御購入検討される御客様に1カ月～2カ月無償で貸し出ししております。 デモ機の仕様は本体+長時間冷却オプションに加えて、真空トランスファーカプセル、断面ローディングステーションもデモ用オプション品がございます。

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