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SEM用イオンミリング装置 SEM Mill MODEL1061

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SEM用イオンミリング装置  / 2025年04月02日 /  試験・分析・測定

SEM用イオンミリング装置 SEM Mill MODEL1061

SEM Mill MODEL1061

最新式のSEM用イオンミリング/ポリッシングシステムです。コンパクトで精密な装置構成で、あらゆる材質・用途に対して、高品質で再現性の高いSEM試料の作成が可能です。

イオンソースの1kV以下のパフォーマンスが高く、 仕上げ加工でダメージレスな観察領域を平面の広範囲に獲得できます。

半導体業界、高分子材料系企業からの問い合わせ多数。
半導体業界はメモリの分野で中心へのテーパー穴開けとして広く導入されています。

特長

  • ビーム径の調整が可能
  • 0°~10°の範囲でミリング角度を連続的に変更
  • 赤色レーザーにより試料の高さ(厚さ)を自動検知
  • 平面試料、断面試料の両方に対応
  • 液体窒素による試料の冷却(温度可変)
  • 試料のロッキング(首振り)及び回転運動
イオンミリング
イオンミリングは、電子透過性が得られる厚さまで試料を薄く削る技術です。不活性ガスのアルゴンをイオン化し、試料表面に向けて加速照射します。この際の衝突イオンの運動量移行を利用し、試料表面の物質を自在にスパッタ除去します。

導入実績

  • 長岡技術科学大学
  • 東京エレクトロン宮城株式会社
  • 他 半導体メーカー多数

技術資料(SEM Millを使ったアプリケーション例)

[Cuのバルクサンプルでの断面作製]

  • 市販の純銅製板材の機械研磨面のSEM像
  • SEMMillをつかって断面作製後のSEM/BSD像を取得
  • ※JFEテクノリサーチ様提供アプリケーションデータ

[市販の亜鉛メッキ鋼板サンプルでの断面作製]

  • 市販の亜鉛メッキ鋼鈑材の機械研磨面のSEM像
  • SEMMillをつかって断面作製後のSEM/BSD像を取得
  • ※JFEテクノリサーチ様提供アプリケーションデータ

仕様

E.A. Fischione Instruments社製
SEM用イオンミリング装置 SEMミル モデル1061
イオン源 2つのTrueFocusイオン源
ビームエネルギー:100eV~10keV
ビーム電流密度:~10mA/cm2
試料ステージ ミリング角度:0°~10°
赤色レーザーにより試料の高さを自動検知
360°の試料回転
試料揺動
試料サイズ
・断面試料
最大:10mm×10mm×4mm
最小:3mm×3mm×0.7mm
・平面試料
~φ32mm×25mm
ロードロックによる素早い試料の出し入れ
試料ホルダー 平面試料用ホルダー
断面試料用ホルダー及びローディングステーション(オプション)
真空/不活性ガス 封入移動カプセル(オプション)
試料の冷却
(オプション)
内部デュワーによる液体窒素誘導冷却
自動温度インターロック
デュワーサイズ

標準タイプ:3~5時間の冷却
長時間タイプ:18時間以上の冷却

ユーザーインターフェイス 10インチタッチスクリーン
シグナルタワー(オプション)
装置サイズ 重量:73kg
寸法:幅660mm×高さ330mm(キャビネット上端まで)×奥行き520mm
電源 電圧:100V, 50/60Hz
消費電力:720W

対応する規格

  • CE規格
  • ISO14001

デモ機について

国内デモ機1台を所有しており、御購入検討される御客様に1カ月~2カ月無償で貸し出ししております。 デモ機の仕様は本体+長時間冷却オプションに加えて、真空トランスファーカプセル、断面ローディングステーションもデモ用オプション品がございます。

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