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TEM用イオンミリング装置 TEM Mill MODEL1051

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TEM用イオンミリング装置  / 2025年04月02日 /  試験・分析・測定

TEM用イオンミリング装置 TEM Mill MODEL1051

MODEL1051

最新式のイオンミリング/ポリッシングシステムです。あらゆる材質に対して、大面積の電子線透過領域を持つ高品質のTEM試料を作成する事が可能です。

イオンソースの1kV以下のパフォーマンスが高く、仕上げ加工でダメージレスな観察領域を広範囲に獲得できます。

特長

  • 独立に制御可能な2つのTrueFocusイオン源を搭載
  • 100eV~10keVの全範囲で小さなビーム径を維持
  • -15°~10°の範囲でミリング角度を連続的に変更
  • 液体窒素による試料の冷却(温度可変)
  • 試料のロッキング(首振り)及び回転運動
イオンミリング
イオンミリングは、電子透過性が得られる厚さまで試料を薄く削る技術です。不活性ガスのアルゴンをイオン化し、試料表面に向けて加速照射します。この際の衝突イオンの運動量移行を利用し、試料表面の物質を自在にスパッタ除去します。

導入実績

  • 東京大学
  • 名古屋大学
  • 大阪大学
  • 東北大学
  • 富山大学
  • 名古屋工業大学
  • 物質・材料研究機構
  • 産業技術総合研究所
【導入事例】
富山大学 機器分析施設様

技術資料

【SrTiO3[100]入射でのHAADF-STEM像】
【論文への記載】Methodsに記載あり
T. Seki et. al, Incommensurate grain-boundary atomic structure, Nature Communications 14,7806 (2023)

仕様

E.A. Fischione Instruments社製
TEM用イオンミリング装置 TEMミル モデル1051
イオン源 2つのTrueFocusイオン源
ビーム径:350μm(100eV時1mm)
ビームエネルギー:100eV~10keV
ビーム電流密度:~10mA/cm2
試料ステージ ミリング角度:-15°~10°
360°の試料回転
試料揺動
ロードロックによる素早い試料の出し入れ
試料ホルダー 作業性、放熱性を考慮したデザイン(ローディングステーション付き)
クランプ機構により、影を作らずに0°までの両面ミリングが可能
X-Y 方向の位置調整が可能な試料ホルダー及びローディングステーション(オプション)
真空/不活性ガス 封入移動カプセル(オプション)
試料の冷却
(オプション)
内部デュワーによる液体窒素誘導冷却
自動温度インターロック
デュワーサイズ

標準タイプ:3~5時間の冷却
長時間タイプ:18時間以上の冷却

ユーザーインターフェイス 10インチタッチスクリーン
シグナルタワー(オプション)
装置サイズ 重量:73kg
寸法:幅660mm×高さ330mm(キャビネット上端まで)×奥行き520mm
電源 電圧:100V, 50/60Hz
消費電力:720W

対応する規格

  • CE規格
  • ISO14001

デモ機について

国内デモ機2台を所有しており、御購入検討される御客様に1カ月~2カ月無償で貸し出ししております。 また、TEM Mill MODEL1051の前処理装置である超音波ディスクカッターMODEL170、ディンプリンググラインダーMODEL200も各2台デモ機を所有しておりますので、ラボラトリーパッケージでの貸し出しデモが可能です。

カタログダウンロード

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