製品・技術
TEM用イオンミリング装置 TEM Mill MODEL1051
最新式のイオンミリング/ポリッシングシステムです。あらゆる材質に対して、大面積の電子線透過領域を持つ高品質のTEM試料を作成する事が可能です。
イオンソースの1kV以下のパフォーマンスが高く、仕上げ加工でダメージレスな観察領域を広範囲に獲得できます。
特長
- 独立に制御可能な2つのTrueFocusイオン源を搭載
- 100eV~10keVの全範囲で小さなビーム径を維持
- -15°~10°の範囲でミリング角度を連続的に変更
- 液体窒素による試料の冷却(温度可変)
- 試料のロッキング(首振り)及び回転運動
- イオンミリング
- イオンミリングは、電子透過性が得られる厚さまで試料を薄く削る技術です。不活性ガスのアルゴンをイオン化し、試料表面に向けて加速照射します。この際の衝突イオンの運動量移行を利用し、試料表面の物質を自在にスパッタ除去します。
導入実績
- 東京大学
- 名古屋大学
- 大阪大学
- 東北大学
- 富山大学
- 名古屋工業大学
- 物質・材料研究機構
- 産業技術総合研究所
- 【導入事例】
- 富山大学 機器分析施設様
技術資料
- 【論文への記載】Methodsに記載あり
- T. Seki et. al, Incommensurate grain-boundary atomic structure, Nature Communications 14,7806 (2023)
仕様
E.A. Fischione Instruments社製 TEM用イオンミリング装置 TEMミル モデル1051 | |
---|---|
イオン源 | 2つのTrueFocusイオン源 |
ビーム径:350μm(100eV時1mm) | |
ビームエネルギー:100eV~10keV | |
ビーム電流密度:~10mA/cm2 | |
試料ステージ | ミリング角度:-15°~10° |
360°の試料回転 | |
試料揺動 | |
ロードロックによる素早い試料の出し入れ | |
試料ホルダー | 作業性、放熱性を考慮したデザイン(ローディングステーション付き) |
クランプ機構により、影を作らずに0°までの両面ミリングが可能 | |
X-Y 方向の位置調整が可能な試料ホルダー及びローディングステーション(オプション) | |
真空/不活性ガス 封入移動カプセル(オプション) | |
試料の冷却 (オプション) |
内部デュワーによる液体窒素誘導冷却 |
自動温度インターロック | |
デュワーサイズ
標準タイプ:3~5時間の冷却 |
|
ユーザーインターフェイス | 10インチタッチスクリーン |
シグナルタワー(オプション) | |
装置サイズ | 重量:73kg |
寸法:幅660mm×高さ330mm(キャビネット上端まで)×奥行き520mm | |
電源 | 電圧:100V, 50/60Hz |
消費電力:720W |
対応する規格
- CE規格
- ISO14001
デモ機について
- 国内デモ機2台を所有しており、御購入検討される御客様に1カ月~2カ月無償で貸し出ししております。 また、TEM Mill MODEL1051の前処理装置である超音波ディスクカッターMODEL170、ディンプリンググラインダーMODEL200も各2台デモ機を所有しておりますので、ラボラトリーパッケージでの貸し出しデモが可能です。
カタログダウンロード
TEM用イオンミリング装置 TEM Mill MODEL1051のカタログをダウンロードいただけます。
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