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SEM用イオンミリング装置 / 2025年04月02日 / 試験・分析・測定

SEM Mill MODEL1061

最新式のSEM用イオンミリング／ポリッシングシステムです。コンパクトで精密な装置構成で、あらゆる材質・用途に対して、高品質で再現性の高いSEM試料の作成が可能です。

イオンソースの1kV以下のパフォーマンスが高く、仕上げ加工でダメージレスな観察領域を平面の広範囲に獲得できます。

半導体業界、高分子材料系企業からの問い合わせ多数。
半導体業界はメモリの分野で中心へのテーパー穴開けとして広く導入されています。

イオンミリング: イオンミリングは、電子透過性が得られる厚さまで試料を薄く削る技術です。不活性ガスのアルゴンをイオン化し、試料表面に向けて加速照射します。この際の衝突イオンの運動量移行を利用し、試料表面の物質を自在にスパッタ除去します。

E.A. Fischione Instruments社製 SEM用イオンミリング装置 SEMミルモデル1061
イオン源	2つのTrueFocusイオン源
	ビームエネルギー：100eV～10keV
	ビーム電流密度：～10mA/cm2
試料ステージ	ミリング角度：0°～10°
	赤色レーザーにより試料の高さを自動検知
	360°の試料回転
	試料揺動
	試料サイズ・断面試料最大：10mm×10mm×4mm 最小：3mm×3mm×0.7mm ・平面試料～φ32mm×25mm
	ロードロックによる素早い試料の出し入れ
試料ホルダー	平面試料用ホルダー
	断面試料用ホルダー及びローディングステーション（オプション）
	真空／不活性ガス封入移動カプセル（オプション）
試料の冷却（オプション）	内部デュワーによる液体窒素誘導冷却
	自動温度インターロック
	デュワーサイズ標準タイプ：3～5時間の冷却長時間タイプ：18時間以上の冷却
ユーザーインターフェイス	10インチタッチスクリーン
ユーザーインターフェイス	シグナルタワー（オプション）
装置サイズ	重量：73kg
装置サイズ	寸法：幅660mm×高さ330mm（キャビネット上端まで）×奥行き520mm
電源	電圧：100V, 50/60Hz
電源	消費電力：720W