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「TEM用イオンミリング装置」一覧

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  • TEM用イオンミリング装置 TEM Mill MODEL1051

    TEM用イオンミリング装置  / 2025年04月02日 /  試験・分析・測定

    TEM用イオンミリング装置 TEM Mill MODEL1051

    MODEL1051

    最新式のイオンミリング/ポリッシングシステムです。あらゆる材質に対して、大面積の電子線透過領域を持つ高品質のTEM試料を作成する事が可能です。

    イオンソースの1kV以下のパフォーマンスが高く、仕上げ加工でダメージレスな観察領域を広範囲に獲得できます。

    特長

    • 独立に制御可能な2つのTrueFocusイオン源を搭載
    • 100eV~10keVの全範囲で小さなビーム径を維持
    • -15°~10°の範囲でミリング角度を連続的に変更
    • 液体窒素による試料の冷却(温度可変)
    • 試料のロッキング(首振り)及び回転運動
    イオンミリング
    イオンミリングは、電子透過性が得られる厚さまで試料を薄く削る技術です。不活性ガスのアルゴンをイオン化し、試料表面に向けて加速照射します。この際の衝突イオンの運動量移行を利用し、試料表面の物質を自在にスパッタ除去します。

    導入実績

    • 東京大学
    • 名古屋大学
    • 大阪大学
    • 東北大学
    • 富山大学
    • 名古屋工業大学
    • 物質・材料研究機構
    • 産業技術総合研究所
    【導入事例】
    富山大学 機器分析施設様

    技術資料

    【SrTiO3[100]入射でのHAADF-STEM像】
    【論文への記載】Methodsに記載あり
    T. Seki et. al, Incommensurate grain-boundary atomic structure, Nature Communications 14,7806 (2023)

    仕様

    E.A. Fischione Instruments社製
    TEM用イオンミリング装置 TEMミル モデル1051
    イオン源 2つのTrueFocusイオン源
    ビーム径:350μm(100eV時1mm)
    ビームエネルギー:100eV~10keV
    ビーム電流密度:~10mA/cm2
    試料ステージ ミリング角度:-15°~10°
    360°の試料回転
    試料揺動
    ロードロックによる素早い試料の出し入れ
    試料ホルダー 作業性、放熱性を考慮したデザイン(ローディングステーション付き)
    クランプ機構により、影を作らずに0°までの両面ミリングが可能
    X-Y 方向の位置調整が可能な試料ホルダー及びローディングステーション(オプション)
    真空/不活性ガス 封入移動カプセル(オプション)
    試料の冷却
    (オプション)
    内部デュワーによる液体窒素誘導冷却
    自動温度インターロック
    デュワーサイズ

    標準タイプ:3~5時間の冷却
    長時間タイプ:18時間以上の冷却

    ユーザーインターフェイス 10インチタッチスクリーン
    シグナルタワー(オプション)
    装置サイズ 重量:73kg
    寸法:幅660mm×高さ330mm(キャビネット上端まで)×奥行き520mm
    電源 電圧:100V, 50/60Hz
    消費電力:720W

    対応する規格

    • CE規格
    • ISO14001

    デモ機について

    国内デモ機2台を所有しており、御購入検討される御客様に1カ月~2カ月無償で貸し出ししております。 また、TEM Mill MODEL1051の前処理装置である超音波ディスクカッターMODEL170、ディンプリンググラインダーMODEL200も各2台デモ機を所有しておりますので、ラボラトリーパッケージでの貸し出しデモが可能です。

    カタログダウンロード

    カタログダウンロード

    TEM用イオンミリング装置 TEM Mill MODEL1051のカタログをダウンロードいただけます。

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