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「平板型赤外線加熱装置」半導体のアニールなどの高速昇温が可能!
広い面積でも均一に加熱「平板型赤外線加熱装置」 3インチ以上の面積の化合物半導体やシリコンウエハー等は均熱良く加熱する必要があります。平板型赤外線加熱装置は、密閉チャンバーにより、雰囲気下で高速にかつ精…
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