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イベント

【Live配信セミナー 5/14】電子産業向け真空技術の基本と機器の運用・問題解決のコツ

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化学・エレクトロニクス:セミナー  / 2024年03月05日 /  産業機械機器 化学・樹脂 電子・半導体
イベント名 電子産業向け真空技術の基本と機器の運用・問題解決のコツ
開催期間 2024年05月14日(火)
10:30~16:30
会場名 ZOOMを利用したLive配信 ※会場での講義は行いません
会場の住所 東京都
お申し込み期限日 2024年05月13日(月)15時
お申し込み

<セミナー No.405402>

 

【Live配信セミナー】

電子産業向け

真空技術の基本と機器の運用・問題解決のコツ

 

★真空機器を使う上での必須知識、薄膜作製・エッチングでの運用ポイント

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■講師

工学院大学 教育支援機構 特任教授 関口 敦 氏 (元 キヤノンアネルバ株式会社)

 

■聴講料

1名につき55,000円(消費税込・資料付き)

1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)

大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくはお問い合わせください。

 

■Live配信セミナーの受講について
・下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
 → https://zoom.us/test
・開催日が近くなりましたら、視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・Zoomクライアントは最新版にアップデートして使用してください。
 Webブラウザから視聴する場合は、Google Chrome、Firefox、Microsoft Edgeをご利用ください。
・セミナー資料はお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。お申込みが直前の場合には、開催日までに資料の到着が間に合わないことがあります。ご了承ください。
・当日は講師への質問することができます。可能な範囲で個別質問にも対応いたします。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。
・Zoomのグループにパスワードを設定しています。部外者の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。万が一部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

プログラムああああああああああああああああああああああああああああああああああああ

 

【この講座で学べること】

1.昨今の各種トレンドデバイスの製造には真空技術が欠かせないことを再確認する.

2.このようなトレンドデバイスを製造する真空機器の特徴と,解決した問題点を学ぶ.

3.真空技術の特徴を整理し,その応用技術を再確認する.

4.真空技術の基本を学習する.

5.真空の作り方,測り方を学ぶ.

6.電子産業で必要な高真空・超高真空技術の応用分野を学ぶ.真空技術を使用することで解決した問題点を整理する.

7.改めて今後の製造産業を考える.

 

【講座概要】

私たちが生活を営む中で真空や真空技術を意識することはあまりありません.しかしながら家庭の中でも身近に真空機器が使用されています.例えば掃除機は真空ポンプの一種です.また魔法瓶は真空断熱技術を応用した機器です.更に,電球,蛍光灯から LED 照明,真空管から半導体集積回路素子,ブラウン管からフラットパネルディスプレイ,撮像管から固体受光素子,最新の食品・医療・分析技術など,昨今のトレンドデバイスはほぼ全て真空技術の進歩と共に進化して来たものです.

今回の講座では,改めて真空の特徴と真空技術の基本を解説します.更にその基本知識を応用し,真空機器を運用することで問題を解決する手法を解説します.新しいデバイスの提案無くしては,製造産業の発展はあり得ません.今回の講座を通して,真空技術と共に皆様のお仕事のお手伝いをさせていただくことを期待しています.

 

1.はじめに

 1.1 真空とは?:産業で取り扱う「真空」の定義

 1.2 真空技術の特徴と用途

 1.3 ノーベル賞と真空技術

 

2.真空技術の基本

 2.1 圧力とは?:真空の程度を表す指標である圧力_大気圧は変動する

 2.2 真空の分類

 2.3 真空下での気体の挙動と特徴

 2.4 平均自由行程と粘性流・分子流

 2.5 超高真空の必要性と分子の入射頻度

 2.6 ガス流量を考える:安定したガス流用制御技術

 

3.真空技術の電子産業応用

 3.1 純度を確保するためのガス配管管理:サイクリックパージ

 3.2 真空充填技術:液晶注入

 3.3 清浄表面の確保と真空:クラスター装置の設計指針

 3.4 成膜時の膜純度確保と真空:到達圧力の影響

 3.5 CVD原料の蒸発速度と飽和蒸気圧

 3.6 低温プラズマプロセスを実現する真空

 3.7 低蒸気圧の化学物質を取り扱う真空装置の設計

 

4.真空を作る・測る

 4.1 真空容器

 4.2 真空ポンプ

 4.3 真空計

 4.4 真空部品

 

5.高真空・超高真空の機器と運用

 5.1 電子産業と真空技術

 5.2 薄膜形成技術1 PVD_蒸着・スパッタリング

 5.3 薄膜形成技術2 CVD・ALD

 5.4 薄膜加工技術 ドライエッチング

 5.5 真空断熱技術:静電チャックの裏面パージを考える

 5.6 真空応用分析機器

 

6.まとめ

 6.1 今後の製造産業を考える

 6.2 更に真空技術を勉強されたい方へ

 

セミナーの詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

 

2名以上同時にお申込される場合、2人目以降の方の情報は【弊社への連絡事項がございましたら、こちらにお書きください】欄にご入力をお願いいたします。