【Live配信 or アーカイブ配信　5/8】プラズマCVDによる高品質成膜プロセス

＜セミナー　No.605421＞

プラズマCVDによる高品質成膜プロセス

★ 低温・高密度・低欠陥高機能成膜を実現するプラズマ反応場の制御技術を徹底解説！

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■講師

大阪公立大学　教授　博士（工学）　白藤 立 氏氏

■聴講料

１名につき５５，０００円（消費税込・資料付き）

１社２名以上同時申込の場合１名につき４９，５００円（税込）

大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくはお問い合わせください。

■セミナーの受講について
・下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
　→ https://zoom.us/test
・開催数日前または配信開始日までに視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。
　セミナー開催日時またはアーカイブ配信開始日に、視聴サイトにログインしていただきご視聴ください。
・出席確認のため、視聴サイトへのログインの際にお名前、ご所属、メールアドレスをご入力ください。
　ご入力いただいた情報は他の受講者には表示されません。
・開催前日または配信開始日までに、製本したセミナー資料をお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。
　お申込みが直前の場合には、開催日または配信開始日までに資料の到着が間に合わないことがあります。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
　複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。
・アーカイブ配信セミナーの視聴期間は延長しませんので、視聴期間内にご視聴ください。

プログラムあああああああああああああああああああああああああああああああああああああ

【講座概要】
産業界で高品質なプラズマＣＶＤ膜の得るための仕事に従事する方々は、プラズマ源の選定から装置パラメータの設定に至る意思決定をする立場にあると思います。この意思決定を適切に行うためには、各種のプラズマ源の特徴を把握しておく必要があります。また、そのプラズマ源を用いたリアクター内で起こる物理・化学的現象が、各種パラメータを変えるとどうなるのか、更にそれが膜質にどのように反映されるのかを把握しておく必要があります。本講座では、プラズマＣＶＤによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムを理解して頂くことを趣旨としました。

【受講後習得できること】
目的に応じたプラズマ源の選定指針を会得して頂くとともに、そのプラズマ源を用いたときに、ガス流量、圧力、投入電力、基板温度などの操作パラメータを増減させるということが、成膜プロセスに対して何をしていることを意味するのかを理解する。

1.なぜプラズマCVD？
　1.1 ドライだから
　1.2 低温だから
　1.3 段差被覆性に優れるから
　1.4 機能性官能基を含有できるから
　1.5 非平衡だから

2.プラズマと気体放電の基礎
　2.1 プラズマの温度
　2.2 壁との境界「シース」
　2.3 放電によるプラズマ生成の基礎

3.各種プラズマ生成方式（プラズマ源）
　3.1 直流放電プラズマ（応用範囲は狭いが，まずはこれで基本原理を理解！）
　3.2 高周波放電プラズマ
　3.3 高密度プラズマ源は何故高密度か？

4.プラズマ化学工学
　4.1 制御パラメータと内部パラメータ
　4.2 プラズマ中の電子のエネルギー分布
　4.3 電子衝突による一次反応
　4.4 二次反応とその影響
　4.5 気相から表面までの輸送過程

5.薄膜堆積プロセスの理解と応用技術
　5.1 表面プロセスの概要
　5.2 膜構造形成過程の基本的描像
　5.3 膜の構造と電子材料としての物性
　5.4 膜構造形成過程と膜物性
　5.5 成膜速度と基板温度
　5.6 イオン衝撃の効能
　5.7 機能基の含有

【質疑応答】

セミナーの詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

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