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イベント

【Live配信 or アーカイブ配信】薄膜作製の基礎

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化学・エレクトロニクス:セミナー  / 2026年05月08日 /  電子・半導体 光学機器 先端技術
イベント名 薄膜作製の基礎
開催期間 2026年07月14日(火) ~ 2026年07月24日(金)
■Live配信日時: 2026年7月14日(火)10:30~16:30
■アーカイブ配信日程:2026年7月24日(金)まで申込み受付(視聴期間:7/24~8/3)
※お申し込み時には、Live配信、アーカイブ配信いずれかのお申込みであるかを、お申込みフォームの【弊社への連絡事項がございましたら、こちらにお書きください】欄欄に明記ください。
会場名 【Live配信受講】もしくは【アーカイブ配信受講】いずれかのみ
会場の住所 オンライン※会場での講義は行いません
お申し込み期限日 2026年07月24日(金)15時
お申し込み

<セミナー No.607233(Live配信)>

<セミナー No.607284(アーカイブ配信)>

 

薄膜作製の基礎

~基礎知識から,装置例,成膜の実際,薄膜の評価,トラブル対策まで~

 

 

 

★ 絶縁性、反射・透過、耐久性など所望の薄膜物性を得るための成膜条件の考え方

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■講師

三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 教授 博士(工学) 佐藤 英樹 氏

 

【略歴】
1996年~2000年 アネルバ (株) (現 キヤノンアネルバ) 半導体装置事業部 技術担当
2000年~2007年 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
2002年~2003年 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
2008年~2022年 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授
2023年~    三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 教授

 

■聴講料

1名につき55,000円(消費税込/資料付き)

1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき49,500円(税込)
大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくはお問い合わせください。


■セミナーの受講について
・下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
 → https://zoom.us/test
・開催数日前または配信開始日までに視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。
 セミナー開催日時またはアーカイブ配信開始日に、視聴サイトにログインしていただきご視聴ください。
・出席確認のため、視聴サイトへのログインの際にお名前、ご所属、メールアドレスをご入力ください。
 ご入力いただいた情報は他の受講者には表示されません。
・開催前日または配信開始日までに、製本したセミナー資料をお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。
 お申込みが直前の場合には、開催日または配信開始日までに資料の到着が間に合わないことがあります。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
 複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。
・アーカイブ配信セミナーの視聴期間は延長しませんので、視聴期間内にご視聴ください。

 

プログラム                     

 

【講座の趣旨】

 薄膜技術は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス、太陽電池、建材、食品産業と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では多機能で高性能な成膜装置が市販されており、かつてと比べて容易に薄膜形成が行えるようになりました。しかしながら、適切な薄膜形成のためには、薄膜技術に関する知識が必要なのは今も昔も変わりません。新規の条件で成膜を行う場合、所望の薄膜を得るためには各種成膜条件が膜質におよぼす影響を考慮しつつ、条件を選択する必要があります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
 本講座では、成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

 

【習得できる知識】

・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識

 

1.成膜技術ための基礎知識

 1.1 真空工学
 1.2 表面物性工学
 1.3 プラズマ工学

 

2.物理気相成長 (PVD) 法

 2.1 真空蒸着法
  2.1.1 原理
  2.1.2 真空蒸着法の種類
  2.1.3 真空蒸着法の留意事項
 2.2 スパッタ法
  2.2.1 原理
  2.2.2 スパッタ法の種類
  2.2.3 スパッタ法で作製される薄膜の特長
  2.2.4 スパッタ法の留意事項

 

3.化学気相成長 (CVD) 法

 3.1 原理
 3.2 化学気相成長法の種類
 3.3 化学気相成長法による成膜例
 3.4 化学気相成長法の留意事項

 

4.薄膜評価法

 4.1 形態観察
 4.2 膜組成、膜構造分析
 4.3 付着力、膜応力測定
 4.4 電気的特性、光学的特性測定

 

5.成膜プロセスで遭遇するさまざまなトラブルと対策

 

【質疑応答】

 

セミナーの詳細についてお気軽にお問い合わせください。
「2名以上同時にお申込される場合、2人目以降の方の情報は【弊社への連絡事項がございましたら、こちらにお書きください】欄にご入力をお願いいたします」