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高速に高温加熱した試験片の“その場観察”が可能な赤外線加熱装置[米倉製作所]

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メールマガジン  / 2011年01月11日 /  環境 電子・半導体 試験・分析・測定

No.1177 2011年1月11日

● 赤外線ランプによる反射熱で、試験片を高速加熱

試験片の高温での変化を加熱前・加熱後から推測したり、高温組織を平衡状
態図から推測したりしていませんか? 株式会社米倉製作所様の赤外線加熱
観察シリーズ は、低温から高温領域で、応力負荷時の試料状態などを「そ
の場観察」可能な新領域の研究開発ツールです。


   ※※※※※※※※【 ここにフォーカス 】※※※※※※※※

    ユニットの組み合わせにより多彩な応用を低価格で実現
         米倉製作所「赤外線加熱装置」

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■ あらゆる試料の加熱・その場観察に対応
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赤外線ランプによる反射熱で、試験片を高速に加熱する画期的な加熱炉の
「赤外線加熱装置」。従来の実験用加熱炉のようにガスやススが発生せず、
エネルギー消費も少ないクリーン加熱対応です。

比較的大きな炉内では、ICなどの部品のみならず、基板に組み込んだ実装に
近い部品を加熱することも可能。実装部品・Siウェハーの電子材料から、鉛
フリー・軽金属・鉄系の金属材料、ガラス・セラミックスなどの無機材料の
ほか、高分子材料などの加熱・その場観察(計測)に最適な装置です。


■ ユニットの組み合わせで多彩な応用が可能
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同社の赤外線加熱装置は、ユニットの組み合わせにより、多彩な応用を低価
格で実現。例えば、赤外線加熱装置「IR-TP1-2」は、より大きな試料に対応
できるほか、熱処理用加熱炉としても利用が可能。溶解、反応、結晶化高温
顕微鏡観察、電子部品高温試験観察にも応用できます。

「IR-QP1-2」は、約4秒で1000度までの加熱を実現。最高使用温度は1700度
まで可能です。汎用熱処理をはじめ、ランプ変更での遠赤外加熱や石英管に
よる超高真空加熱に応用できます。「IR-QP2-4」は高い加熱能力と温度制御
性で、アイソサーマル試験や測定のほか、小物ライン加熱、高温引張試験、
高温シュミレータ、連続熱処理炉などにも利用できます。

応力負荷時の加熱・その場観察(計測)など、豊富なラインナップで用途に
応じた装置をご提供します。


同社ではサンプルの加熱観察テストやデモも実施しております。赤外線加熱
装置や各種試験機についてのご質問やご要望など、お気軽にお問い合わせく
ださい。

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