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【半導体研究が変わる】100nm以下のナノ構造を非破壊・フルカラー観察[日本レーザー]

メールマガジン / 2025年08月07日 / 電子・半導体試験・分析・測定光学機器

NAVIメールPlus　2025年8月7日配信

従来の光学顕微鏡では、回折限界により、半導体研究開発などナノスケールの詳細観察が難しく、またSEMやAFMでは、真空環境が必要で試料にダメージを与える可能性や前処理の手間といった制約がありました。
このたび株式会社日本レーザー様が発売された「ミクロスフィア式超解像分解能光学顕微鏡 ≦100nm分解能 NANORO M」は、100nm以下の空間分解能で、回折限界を超えてナノスケールの構造を非破壊・フルカラーで観察可能。半導体研究開発および先端材料イメージング、SEMやAFMの代わりとしてもご使用いただけます。

【非破壊・フルカラー】超解像機能を備えた
完全光学式の顕微鏡

同社の「ミクロスフィア式超解像分解能光学顕微鏡 NANORO M」は、使い慣れた一般的な対物レンズ（10倍）から超解像用の対物レンズ（SMAL　分解能 ≦100nm）まで対応する光学顕微鏡です。
以下のような特長とメリットがあります。

フルカラーの結像

LIG Nanowise社のミクロスフィアレンズ（微小球体レンズ）により、NANORO Mは色情報を維持したまま、回折限界を超えて結像することが可能。

迅速なサンプルスキャンを実現

LIG Nanosiwのソフトウェアと精密ステージにより、サンプルの広い領域を画像化することが可能。

非破壊

従来の超解像技術とは異なり、NANORO Mは非破壊であるため、サンプルを損なうことなく繰り返しイメージングすることが可能。

誰でも簡単に使用可能

超解像機能を備えた完全光学式の顕微鏡であるため、従来の白色光顕微鏡に慣れ親しんだ方であれば、どなたでも簡単にご使用可能。

ラボ（研究室）対応

NANORO Mは、標準的な光学テーブルの上で作業が可能。クリーンルームや真空などの特別な環境は不要。

≤100nm 分解能

SMAL（超分解能ミクロスフィア増幅レンズ）を使用するオプションにより、NANORO Mは空間分解能 100nm 以下での観察が可能。

SEMやAFMでは困難だった検査を
可能にする対物レンズ

≦100nm　分解能を実現する、対物レンズSMAL（Super-resolution Microsphere Amplifying Lens ：超解像ミクロスフィア増幅レンズ）は、非接触・非破壊で半導体チップやシリコンウエハの検査ができ、白色光を用いてナノスケールの微細構造をフルカラーで観察可能。従来のSEMやAFMでは困難だった検査を可能にし、製品の高品質化と製造コスト削減、生産性向上を実現させます。
※対物レンズのみの販売もしております。