株式会社ケミトロニクス

ガラス基板用光洗浄装置 MUS-712
　 卓上型ＤｅｅｐＵＶ表面改質処理装置 MUS-350
　 枚葉式ＵＶ光照射装置 E-280
　 ハードディスク用表面改質装置 HD-550
　 ＵＶアッシング装置 UA-560
　 ＵＶイレーサー E-400C
　 ＵＶハードニング装置 UH-120
ＷＥＴ装置
　 枚葉式エッチング装置 LE-02
　 カセット式エッチング装置 BE-203MC
　 枚葉式リフトオフ装置 L-700
　 全自動エッチング装置 L-03
　 枚葉式両面洗浄装置 HU-8000
　 ＲＣＡウェット-光洗浄複合装置 TCU-5000
ＣＶＤ装置
　 ＥＢ蒸着装置 HV-500
　 大気圧プラズマＣＶＤ装置 EC-01
　 ＵＨＶ−ＣＶＤ装置 CV-200
　 レーザーアブレッシブＣＶＤ装置 S-210
　 レーザーＣＶＤ装置 LC-1800
熱処理装置
　 化合物半導体用オーミックアロイ装置 OS-3500
　 φ６インチウェハ対応オーミックアロイ装置 OS-3500V
　 化合物半導体用ウェハアニール装置 CA-4200
　 化合物半導体用縦型拡散装置 OD-2500
検査装置
　 ガラス基板外観検査装置 LP-1200H
　 ウェハ表面異物・欠陥検査装置 DPM-7500
　 汚染抽出装置 CHL-200
　 ＦＴＩＲ装置 RM-800
研究開発用装置
　 フォトシステムスピンコータベーク装置 CB-500L
CB-1500
SB-500L
　 常圧高密度プラズマＣＶＤ装置 AP-01
　 マイクロマシン用犠牲層ドライエッチング装置 CT-08
　 超高真空装置 VL-100
その他
　 ウェハ移載装置 UWR-6S
　 反応性ベーク装置 HC-200
　 スパッタ装置 TS-300
　 磁性材用複合システム TV-150
主な開発予定装置
マルチチャンバー洗浄装置、高アスペクト比ウェットエッチング装置、膜厚フィードバック型ウェットエッチング装置、膜厚フィードバック型コーターベーク装置、アトミックレイヤーエピタキシャル装置、ＬＳＩ配線用複合メタルＣＶＤ装置、光電子デバイス用セル張り合せ装置、ウェハ表面検査分析装置、高実装度用多層配線基板開発　．ｅｔｃ