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イベント

【Live配信 or アーカイブ配信】ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法;KrF,ArF,EB,およびEUV用レジスト材料の開発方法

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化学・エレクトロニクス:セミナー  / 2026年01月01日 /  化学・樹脂 IT・情報通信 電子・半導体
イベント名 ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法;KrF,ArF,EB,およびEUV用レジスト材料の開発方法
開催期間 2026年02月26日(木) ~ 2026年02月27日(金)
【Live配信】
2026年2月26日(木) 10:30~16:30 
【アーカイブ(録画)配信】
2026年3月9日まで受付(視聴期間:3月9日~3月19日まで)
会場名 Zoomを利用したLive配信
会場の住所 東京都
お申し込み期限日 2026年02月26日(木)15時
お申し込み

<セミナー No.602209>

【Live配信 or アーカイブ配信】

ポジ型およびネガ型レジスト材料の

合成と評価方法および分子設計方法;KrF,ArF,EB,およびEUV用レジスト材料の開発方法

 

★レーザー,ランプ・・・どの波長の光や,どの周波数帯の電子線が溶解性に最適なのか?
★新しい材料開発の動き,フォトレジスト評価の測定機器の使い方,経済安全保障との関連性

 

■ 講師
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 博士(工学)  工藤 宏人 氏


   <公職> ・フォトポリマー学会 理事
         ・【元】 (一社)ラドテック研究会 理事

   <受賞歴> ・2007年 高分子学会「日立化成賞」
          【環状オリゴマーを基盤 とした光機能性材料

                          (レジスト,屈折率変換材料) の開発】

 
■ 開催要領
日時:
【Live配信】2026年2月26日(木) 10:30~16:30 
【アーカイブ(録画)配信】2026年3月9日まで受付(視聴期間:3月9日~3月19日まで)
会場:ZOOMを利用したLive配信またはアーカイブ配信 ※会場での講義は行いません
聴講料:1名につき55 ,000円(消費税込,資料付)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)〕
〔大学,公的機関,医療機関の方には割引制度があります。詳しくはお問い合わせ下さい〕

 

■申し込み時のお願い

本セミナーは【Live版】か【アーカイブ版】の何れか,選択制となります。原則として申し込み後の変更は出来ませんのでご留意願います。ご不明の際は本セミナーの企画担当までお問合せ願います。

 

■セミナーの受講について

・下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
 → https://zoom.us/test
・開催数日前または配信開始日までに視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。
 セミナー開催日時またはアーカイブ配信開始日に、視聴サイトにログインしていただきご視聴ください。
・出席確認のため、視聴サイトへのログインの際にお名前、ご所属、メールアドレスをご入力ください。
 ご入力いただいた情報は他の受講者には表示されません。
・開催前日または配信開始日までに、製本したセミナー資料をお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。
 お申込みが直前の場合には、開催日または配信開始日までに資料の到着が間に合わないことがあります。
・本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
・本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
 複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。
・アーカイブ配信セミナーの視聴期間は延長しませんので、視聴期間内にご視聴ください。

 

プログラム                                                                                                          

【講座の趣旨】
 フォトレジスト材料は,化学増幅型システムを基盤として,露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について,高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに,KrF,ArF,EB,およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。   また,レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し,新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら,最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。

 

【受講対象者】
  ・フォトレジストに関連する技術者,開発者,研究者
  ・フォトレジストで課題を抱えている方
  ・これからフォトレジストに携わる方

 

【修得できる知識】
  ・レジスト材料の基礎
  ・レジスト材料の開発方法
  ・レジスト材料の評価方法

 

【セミナープログラム】
1.レジスト材料
  1.1 原理
  1.2 合成例
  1.3 最新の化学増幅型

 

2.ポジ型レジスト材料
  2.1 材料的な特性
  2.2 主な応用・用途

 

3.ネガ型レジスト材料
  3.1 材料的な特性
  3.2 主な応用・用途

 

4.高分子レジスト材料と低分子レジスト
  4.1 材料的な特性
  4.2 主な応用・用途

 

5.レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
  5.1 レジスト材料の評価項目,評価手法について
  5.2 レジスト材料の評価方法と開発例

 

6.最新型レジスト材料
  6.1 メタルレジスト
  6.2 EB,EUV用レジスト材料

 

7.良く出る質問,ケーススタディ,Q&A
  【例1】レジスト組成物としての添加剤の使用目的とは?
  【例2】レジスト材料の機械的特性の評価法とは?
  【例3】アウトガスの発生原因とその測定方法とは?
  【例4】光源の照射量・時間・強さの調整法とは?
  【例5】カリックスアレーンのレジスト材料への可能性は?
  【例6】レジスト材料の耐久性,寿命予測法とは?
  【例7】レジスト材料に求められる改善点,課題とは?
  【例8】レジスト材料の保存管理のポイントは?
  【例9】レジスト材料の安全性や規格規制の動きは?
  【例10】レジスト材料の海外での研究実例は?

 

【質疑応答】

 

※受講者の皆様の抱える疑問点や問題点について,セミナー開催3日前

までに 「事前リクエスト用紙」 (請求書に同封)や 「Eメール」 を御寄せ

頂けましたら,講演中に対応させて頂きます。

 

※セミナーの詳細についてお気軽にお問い合わせください。

※なお,「2名以上同時にお申込される場合、2人目以降の方の情報は

【弊社への連絡事項がございましたら、こちらにお書きください】欄に

ご入力をお願いいたします」

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