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サブミクロンレベルの気泡除去&ナノレベルの均一分散を同時処理[シンキー]

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メールマガジン  / 2011年04月06日 /  化学・樹脂 電子・半導体 光学機器

No.1224 2011年4月6日

● 材料処理の効率化で 研究開発から量産までをトータルにご提案

「混ぜる」と「気泡」を巻き込んでしまうものですが、2つの遠心力を組み
合わせた自転・公転ミキサーなら、撹拌と脱泡を同時処理できます。真空タ
イプの機種なら、サブミクロンレベルの気泡除去も実現。株式会社シンキー
様では、20年以上の蓄えられたノウハウで、材料の攪拌、分散やナノ粉砕の
「困った」にお応えします。


  ※※※※※※※※※※【 ここにフォーカス 】※※※※※※※※※※

     カーボン系ナノ粉体など機能性材料の分散・脱泡に最適
  電子・光学材料、塗料、化成品、製薬、化粧品等の幅広い分野で活躍

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■ 材料の特性にあわせ、最適なレシピで処理
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自転・公転ミキサー「あわとり練太郎」は、遠心力で容器内の材料を効率的
に撹拌・脱泡。材料を直接かき混ぜず、材料の付着がない方式なので、材料
ロスを大幅に低減。洗浄工程を省略することも可能です。出荷容器での処理
も可能で、生産効率と材料品質の向上、コスト改善に貢献します。

最新機種「ARE-400TWIN」では、粘度4,000Pa sの高粘度グリースも攪拌可能。
新開発の温度センサユニットを併用すれば、処理中の容器内の材料温度をリ
アルタイムに検知し、ログ転送も可能です。温度管理の難しい材料にも最適
なレシピを設定できます。


「ARV-10kTWIN」は、最大20Lの材料を処理できる量産向け新製品。容器ホル
ダー内真空減圧技術を搭載し、材料処理時間だけでなく、減圧にかかる時間
さえ大幅に短縮しています。ナノレベルの均一分散をサブミクロンレベルの
気泡除去と同時に処理する性能に加えて、揮発性のある材料にも対応できる
遠心脱泡も可能です。また、独自の放熱構造により連続運転ができるため、
ラボで達成している材料品質を維持したまま、量産移行を可能にします。


両製品とも材料の性質に応じた細かいパラメータ設定ができるので、高粘度
の樹脂材料、カーボン系ナノ粉体や金属ナノ粉体などの機能性材料など、幅
広い材料に対応できます。


■ 材料の分散・脱泡技術と脱泡事例
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同社は4月13日から開催の光/レーザーの総合技術展「フォトニクス2011」に、
2つの新製品を出展。13日(水)には、真空タイプの自転・公転ミキサーを用い
た材料の分散・脱泡事例および「ARV-10kTWIN」について講演も行います。
ぜひ、ブース・講演に足をお運びいただき、実機をお確かめください。

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  展示会名 : Photonix 2011 -フォトニクス-
  会 期  : 2011年4月13日(水)~15日(金)
  会 場  : 東京ビッグサイト 東4ホール
  ブース  : 38-5
  講 演  : 2011年4月13日(水)  14:30~15:00
  『真空式自転・公転ミキサーによる分散・脱泡技術とスケールアップ』
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自転・公転ミキサー「あわとり練太郎」シリーズのほか、ナノ粉砕や解砕、
乳化などの処理についても提案できるノウハウがあります。製品へのお問い
合わせやカタログ要望、評価依頼など、お気軽にお寄せ下さい。

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