東京都にある 三和真空株式会社の会社情報です。
事業概要 、製品・技術・サービス などを掲載しています。

三和真空株式会社の事業概要

会社設立以来、お客様が求めるニーズとメーカーが作り出したシーズを結びつける技術の架け橋となって参りましたが、今後は技術の架け橋に加えて自社で技術を保有し、テクノロジートータルプロバイダーとして、より深くお客様へ寄与できる企業を目指して参ります。

三和真空株式会社の製品・技術・サービス

磁気ヘッド用DLC超薄膜形成装置
サーマルCVD装置
ハードディスクDLC超薄膜形成装置
MO-CVD装置
耐磨耗性用DLC形成装置
ICPプラズマエッチング装置
低圧高密度CVD装置
ECRプラズマ装置
リアクティブイオンエッチング装置
プラズマアッシング装置
イオンビームスパッタリング装置
高イオン化スパッタリング装置
TEOS対応CVD装置
その他真空装置
配管継手(NW, ICF, JIS, ISO他)
金属ベローズ(溶接ベローズ、成形ベローズ、フレキシブルチューブ他)
真空バルブ(アングル型、ストレート型、ゲート型他)
超高真空(導入機、ビューイングポート他)
真空ポンプ
真空計

企業プロフィール

企業名
三和真空株式会社
企業名かな
さんわしんくう
代表者名
代表取締役 鹿村 健
ホームページ
三和真空株式会社のホームページ

@engineer