EQUINOX 100 X線回折装置による Si上のNi薄膜の研究

X線回折は、薄膜／層およびコーティングの特性を評価するために一般的に使用される構造解析手法の1つです。多種多様な応用材料の開発により、産業分野とアカデミアの両面で、薄膜やコーティングの分析の需要が高まっています。このような材料は、例えばグリーンエネルギーハーベスティングのための太陽光発電コレクターに、その逆のLEDやレーザーに光を生じさせる材料あるいは高度な光学用途向けの材料にも使用されます。

多機能無機薄膜および有機-無機ハイブリッド薄膜（ナノスケール）の結晶構造は、GIXRD（微小角入射XRD）によって特徴付けることができます。電子的および光学的特性は化合物の構造に大きく依存するために重要です。GIXRDでは、基板ではなく層を測定するために、微小角（0.5°～ 2°）が用いられます。

当社のARL EQUINOX 100 X線回折装置は、ミラー光学系を備えたカスタム設計の50 W Cuまたは15 W Coの高輝度マイクロフォーカスチューブを採用しており、外部冷却装置を必要としません。薄膜用のアタッチメントは、ωとzのコンピューター制御が可能なので、測定のための試料の位置合わせが非常に容易です

また、ARL EQUINOX 100 X線回折装置は、全体の回折ピークを同時にリアルタイムで測定する独自のcurved positionsensitive（CPS）検出器により、他の回折装置と比較して非常に
高速なデータ収集ができるため、GIXRDを使用した薄膜試料の高速スクリーニングに最適です。

当ページでダウンロードできるアプリケーションノートではこのような当装置の特長とその活用例を紹介します。