リソテックジャパン株式会社

◆ 解析装置関連 、●レジスト現像アナライザ　RDAシリーズ、　RDA-760／RDA-790／RDA-800／RDA-QZ3、●フォトプロセス解析露光装置、　UVES-2000／VUVES-4500／IMES-5000／IMESq-5500、　／EBES-6000／EUVES-7000、●レジスト評価ツール、　PAGA-100／LTNIP-5000／NHGC-4000／ProxSim I、●リソグラフィ・シミュレータ（KLA-Tencor社製品）、　PROLITH/ProDATA/ProBEAM/LithoWare 、◆ 受託測定・受託研究 、●自動レジスト塗布・現像・ベーク装置　LITHOTRACシリーズ、　CB-50／DB-50／Dual-1000、●マニュアル・ベーク・クーリング　LWBシリーズ、　LWB-03／LWB-03P／APPS-30／APPS-40、●マニュアル・レジスト塗布現像装置　Litho Spin Cupシリーズ、　LSC-800C／LSC-800D／LSC-QZ1／LSC-400C／LSC-400D、●膜厚測定装置/ウェーハ膜厚測定装置（Foothill社製品）、　KV-300/KF-10/KF-10m/Si-71、●高性能マスクアライナ（Neutronix Quintel社製品）、　NXQ7500/NXQ4000-6/NXQ4000-4/NXQ1200、●高解像転写プロセス技術：MxL（Transfer Devices, Inc.社製品）、●半導体露光装置測定システム（Litel Instruments社製品）、　InspecStepTM干渉計［InspecStepTM Interferometer （ISITM）］、　光源測定装置［Source Metrology Instrument （SMITM）］、●半導体露光装置用フォト・マスク（Benchmark Technologies社製品）、　Phase Shift Focus Monitor Reticle、　Universal Matching Reticle、　EZProbe Reticle、　Cleave Reticle、　Process Defect Monitor Reticle、　OPC Products and services、　Defect Sensitivity Monitor Reticle、●EQ-10M EUV Source