株式会社アルテックス

●CVD：
Chemical Vapor Deposition　化学蒸着法
ハロゲン化金属蒸気と反応ガスにより、被処理工具の表面で気相反応を行なわせて、ファインセラミックスの薄膜を得ようとする処理をCVD（化学蒸着法）と呼びます。
CVD法による薄膜は、ファインセラミックスの優れた物性を持つため、他の様々な表面処理に比べ、硬度、密着性、均一性etc.で、圧倒的な性能を発揮します。再現性や生産性・品質水準・コスト等でトータルな観点から高く評価されています。
アルテックスでは、地道な研究とユ−ザ−各位の協力による豊富な実用データをベースに、望み得る最良のCVD（化学蒸着法）を行なっています。

●PVD：
Physical Vapor Deposition　物理蒸着法
生産の効率化や、コスト低減には、工具・金型の高寿命化が不可欠です。
そのために最も一般的にとられている方法が、PVD(イオンプレーティング)処理です。
PVD処理は、製品表面に膜厚 2～4 ミクロンのセラミックコーティングを施し、耐磨耗性を向上させる処理です。切削工具、冷間鍛造金型等の表面硬化処理として利用されていますアルテックスでは、最先端のPVD技術を導入し、ニーズに対応しています。
均一性と密着性の良いPVD処理を短納期、低コストで行っています。