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【書籍】低誘電率、低誘電正接材料の設計と応用(No.2332)

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【試読できます】 

低誘電率、低誘電正接材料の
設計と応用
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~高速・大容量通信、AIサーバ向け高速伝送に応える~

 

★高周波対応、半導体パッケージ分野に向けた開発、課題と方向性について一挙掲載!

 

★誘電性能と基板加工性を両立するには

 

 

 

        

  ■ 目 次                                                                                                           

第1章 分子設計による高分子材料の低誘電特性、接着性の向上
第2章 低誘電特性、接着性を改善する添加剤の開発と応用
第3章 低誘電特性を改善するフィラー、繊維材料の開発と応用
第4章 誘電特性に優れたフィルム材料の開発
第5章 低誘電セラミックス材料の開発と応用
第6章 低誘電特性を実現する表面処理技術
第7章 低誘電特性に優れた基板の開発
第8章 低誘電材料の誘電特性、物性評価技術

 

■ 本書のポイント                                                                                              

◆高分子材料の低誘電特性、接着性向上
・エポキシ樹脂の低誘電化と耐熱性、銅箔との密着性の維持
・低誘電ビニル樹脂の設計
・マレイミド樹脂の低誘電化に向けた各種硬化系の適用
・分岐型PPE樹脂の開発と耐熱性、低誘電特性を維持したフィルム化
・低誘電ポリイミド樹脂の低吸水率化、接着性、成形加工性改良
・データと機械学習モデルを活用した材料の探索

◆低誘電特性を改善するフィラー、添加剤
・ポリブタジエンの添加剤応用による低誘電特性の改善
・低誘電特性とTg高温化を両立する活性エステル系エポキシ樹脂硬化剤
・PPE樹脂、ビスマレイミド樹脂用低誘電用途架橋剤の適用
・中空状シリカ粒子の特徴と低誘電特性誘電特性の改善
・低Dk、低Dfと機械特性の両立を実現するガラスフレークの開発
・ポリイミドナノファイバー不織布による空隙の導入

◆低誘電特性と密着性を両立する表面処理
・減圧プラズマ処理による表面改質、銅メッキ、直接接着技術
・VUV処理による難接着材料の接着性・密着性向上
・SPS樹脂、LCP樹脂への機能めっき技術
・銀シードを用いた平滑基材へのめっきと回路形成技術

◆低誘電材料の開発
・低誘電熱可塑性PARK樹脂、オレフィン系樹脂フィルム
・SPS製高周波配線板向けフィルム
・低CTE特性に優れたポリイミドフィルム
・低誘電率Cu系LTCC材料の開発と基板材料への応用
・低損失化を実現したスピネル材料の開発
・低誘電多孔ポリイミド回路基板
・低誘電・低損失特性を持つふっ素樹脂高多層基板
・LCPとセミアディティブ(SAP)法を用いた高周波FPCの開発
・FPCの高速伝送化、薄化、高屈曲化への対応

  

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詳細目次、執筆者は、「資料ダウンロードページへ」からパンフレットをご覧ください。
ご購入、試読のお申込みは、「このページに関するお問い合わせ」よりご依頼ください。

 

 

 

製品概要 ●発刊:2026年3月31日
●体裁:A4判 444頁
●執筆者:44名
●ISBN:978-4-86798-144-3
特徴 ※無料試読できます。お問い合わせください。

※大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくはお問い合わせください。
製品名・型番等
シリーズ名
低誘電率、低誘電正接材料の設計と応用(No.2332)
価格 定 価:88,000円(税込) 【送料込】
納期 お申込みが確認され次第、商品と請求書をお送りいたします。
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