12/11 ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向

ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向

ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎と実用例を解説

講師

東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科・教授　谷口 淳 氏
【その他 活動等】
　応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長

セミナー趣旨

ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。NILは、1995年にプリンストン大学のChou先生が提唱してから30年以上たち、製品化も進んでいる。
　本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、新製品等のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品等のヒントが得られると考えている。さらに、最新のメタレンズやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。

セミナー講演内容

１．はじめに
　1.1 ナノインプリントリソグラフィの歴史
　1.2 ナノインプリントリソグラフィの現状

２．ナノインプリントの基礎
　2.1 ナノインプリントの要素技術（金型、樹脂、装置等）
　2.2 ナノインプリントの各種方式
　2.3 ナノインプリントの位置づけ

３．ナノインプリントの応用技術
　3.1 ナノトランスファープロセス
　3.2 金属パターン転写

４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
　4.1 RTR NILの基礎
　4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
　4.3 モスアイ構造の作製方法
　4.4 モスアイ構造の転写方法
　4.5 モスアイ構造の応用例

５．将来展望
　5.1 メタレンズ
　5.2 AR/MR グラス

6．まとめ

□ 質疑応答 □

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