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イベント

6/19 ＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞ プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による 高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

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電気・電子・半導体・通信 表面科学：接着・コーティング  / 2025年05月28日 /  電子・半導体 光学機器
イベント名 ＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞ プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による 高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応
開催期間 2025年06月19日（木）
13:00～16:30
【アーカイブの視聴期間】
2025年6月20日(金)～6月26日(木)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
会場の住所 オンライン
お申し込み期限日 2025年06月19日（木）13時
お申し込み受付人数 30  名様
お申し込み

＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞
プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による
高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術／課題と対策を解説■

 

受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ

【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク 
★ アーカイブ受講のみもOKです。
★ 30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします！

【Live配信受講者 限定特典のご案内】
当日ご参加いただいたLive(Zoom)配信受講者限定で、特典(無料)として
「アーカイブ配信」の閲覧権が付与されます。
オンライン講習特有の回線トラブルや聞き逃し、振り返り学習にぜひ活用ください。 

 

講師

 

SPPテクノロジーズ(株)
製造部 次長　兼　生産管理グループ長　兼　マーケティング部 マネジャー　金尾 寛人　氏


【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月　名古屋工業大学 工学部 第一部 電気情報工学科を卒業．
1989年4月　住友金属工業(株)に入社．
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月　住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング（現在）


【WebSite】
https://www.spp-technologies.co.jp/

 

セミナー趣旨

 

　当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。

 

セミナー講演内容

 

＜得られる知識・技術＞
プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。

＜プログラム＞
１．プラズマCVD装置の基本構造
　1.1 プラズマCVD装置の構成
　1.2 反応チャンバーの基本構成

２．プラズマCVD装置の用途
　2.1 適用アプリケーション

３．プラズマCVD装置のプロセス性能
　3.1 SiH4系SiO2膜
　3.2 SiH4系SiN膜
　3.3 SiH4系SiON膜
　3.4 SiH4系a-Si膜
　3.5 SiH4系SiC膜
　3.6 TEOS系SiO2膜
　3.7 液体ソース系SiN膜

４．開発用装置と量産用装置
　4.1 プラットフォーム

５．プラズマCVD装置の課題と対策
　5.1 高レート化
　5.2 プロセスの再現性
　5.3 低パーティクル
　5.4 チャンバークリーニング
　5.5 ウェーハ温度の低温化
　5.6 ウェーハ大口径化　　など

　　□質疑応答□

 

※詳細・お申込みは上記

「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。

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