11/13 ＜１日速習！よくわかる＞ 半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

横浜国立大学 名誉教授
反応装置工学ラボ・代表　羽深 等　氏

【主な経歴】
新潟大学理学部化学科　理学士（1979年3月）
京都大学大学院理学研究科化学専攻　理学修士（1981年3月）
広島大学大学院工学研究科　博士（工学）（1996年9月）
信越化学工業株式会社　1981年4月～2000年3月
横浜国立大学工学部物質工学科　助教授　2000年4月～2002年3月
横浜国立大学大学院工学研究院　教授　2002年4月～2022年3月
横浜国立大学大学院工学研究院　名誉教授　2022年４月～
反応装置工学ラボ　代表　2022年4月～

【研究分野】
半導体結晶製造プロセスの化学工学（実験と解析）
半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
半導体シリコンと炭化珪素の薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチング・装置クリーニングのプロセス開発と解析
半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析

【WebSite】
反応装置工学ラボ　https://www.rare-lab.com/

　半導体洗浄が直感で分かることを目指して、基礎現象・要点から困った時の対策まで1日で説明します。半導体にとって「清浄・きれい」とは何か？を改めて考え、水の流れを動画で眺めると、洗浄では何をしていて、何をどうしたら良いのかが感じ取れます。
　ここでは、身近な流れの動画を見て感覚をつかみ、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れを可視化観察動画と計算例で理解します。超音波の効果についても流れと気泡の動画を見るとイメージが湧きます。今後、極めて微細パターンを洗浄する際に見落としがちなことも考えてみます。終わりには、足元をすくわれた時の視点と対策を紹介して締め括ります。工学の初歩から応用のつながりまで説明しますので、半導体以外の洗浄や洗浄以外のプロセス技術者にも参考になります。

１．洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？

２．一般の洗浄
　　（洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学）

３．半導体の洗浄に特有のこと
　　（何故、そこまでして洗うのか）

４．先端技術情報
　　（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５．半導体洗浄の基礎現象
　　（薬液と流れの効果）
　5.1 表面の現象とプロセス
　　　（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
　5.2 流れ、熱、拡散、反応
　　　（洗う＝汚れを動かす操作）
　5.3 装置内流れの種類
　　　（完全混合、押出流れ、境界層）
　5.4 流れの可視化観察
　　　（「流れ」と「拡散」の感覚を動画で）

６．洗浄機内の流れと反応
　6.1 枚葉式洗浄機
　　6.1.1 水の流れ（観察動画と計算例）
　　6.1.2 化学反応の例（表面反応もここまで分かる）
　6.2 バッチ式洗浄機
　　6.2.1 水の流れ(観察動画と計算例)
　　6.2.2 水流を最適化（入口と出口で変わる）
　6.3 超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）

７．洗浄の評価方法

８．狭い空間の洗浄

９．まとめ：困った時の視点と対策（境界層を壊そう！）

　　□質疑応答□

※詳細・お申込みは上記

「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。