11/27 ドライエッチング技術の基礎と 原子層エッチング（ALE）の最新技術動向

大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻 教授　浜口 智志　氏

【経歴】
1982年東京大学理学部物理学科卒業
1987年同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了
1988年ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了
1988年-1990年テキサス大学物理学科核融合研究所（IFS)　研究員
1990年-1998年IBM ワトソン研究所主任研究員
1998年-2004年京都大学エネルギー科学研究科・助教授
2004年-現在　大阪大学工学研究科・教授

【学位】

理学博士、Ph.D. in mathematics

【専門】

プラズマ物理学、プラズマプロセス工学、核融合科学

【学会活動】

国際真空科学技術応用国際連合（IUVSTA)プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、Journal of Plasma Medicine 編集委員長、ライプニッツ・プラズマ科学技術研究所（ドイツ）科学諮問評議会委員、プラズマ医療国際学会（IPMS)元会長、米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、等。

【受賞】

2016:プラズマ賞・米国真空学会（AVS), 2012:米国物理学会（APS)フェロー、2011:AVSフェロー、2019ドイツ研究振興協会メルカトールフェロー、2022：日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会プラズマ材料科学賞　等

【WebSite】

http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/

　本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング（ALE）技術について、表面反応機構から最新技術動向までを詳しく紹介する。関連項目として、プラズマＣＶＤと原子層堆積（ALD)プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション（DX)の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。

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