イベント名 | ALD技術/ALE技術の基礎と 半導体材料・デバイスへの応用展開 |
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開催期間 |
2024年11月18日(月)
10:00~16:00 【アーカイブの視聴期間】 2024年11月19日(火)~11月25日(月)まで ※このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。 ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
会場名 | 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き |
会場の住所 | オンライン |
お申し込み期限日 | 2024年11月18日(月)10時 |
お申し込み受付人数 | 30 名様 |
お申し込み |
|
ALD技術/ALE技術の基礎と
半導体材料・デバイスへの応用展開
■薄膜形成技術、原子層堆積法、アトミックレイヤーエッチング■
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク
★ アーカイブ受講のみもOKです。
★ 半導体プロセス技術・半導体デバイス技術における堆積・エッチングの原理・材料を
【Live配信受講者 限定特典のご案内】
当日ご参加いただいたLive(Zoom)配信受講者限定で、特典(無料)として
「アーカイブ配信」の閲覧権が付与されます。
オンライン講習特有の回線トラブルや聞き逃し、振り返り学習にぜひ活用ください。 |
講師 |
奈良先端科学技術大学院大学 教授 浦岡 行治 氏
<略歴>
1985年 松下電器産業(パナソニック) 半導体研究センター
1994年 松下電器産業(パナソニック)液晶開発センター
1999年 奈良先端科学技術大学院大学 准教授
2009年 奈良先端科学技術大学院大学 教授
2023年 奈良先端科学技術大学院大学 マテリアル研究プラットフォームセンター長
応用物理学会フェロー
<WebSite>
https://mswebs.naist.jp/LABs/uraoka/PUBLIC/top/top.html
セミナー趣旨 |
AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。
薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。
本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD(原子層堆積)技術やALE(原子層エッチング)技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積やエッチングの原理や材料について詳しく紹介する。また、ALDについては、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイス、太陽電池に応用した時の特長や課題についても紹介する。
セミナー講演内容 |
<得られる知識・技術>
・薄膜形成・加工の物理・評価技術
・半導体プロセス技術
・半導体デバイス技術
・信頼性評価技術
<プログラム>
1.薄膜形成技術
1.1 薄膜作製/加工の基礎
1.2 薄膜の評価手法
1.2.1 電気的評価
1.2.2 化学的分析手法
1.2.3 光学的評価手法
2.ALD技術の基礎
2.1 ALD技術の原理
2.2 ALD薄膜の特長
2.3 ALD技術の歴史
2.4 ALD装置の仕組み
2.5 ALD技術の材料
3.ALD技術の応用
3.1 パワーデバイスへの応用
3.2 酸化物薄膜トランジスへの応用
3.3 MOS LSIへの応用
3.4 太陽電池への応用
4.ALE技術の基礎
4.1 ALEの歴史
4.2 ALEの原理
5.ALE技術の応用事例
5.1 シリコン、窒化ガリウム等半導体材料への応用
5.2 シリコン酸化膜、窒化膜等絶縁膜への応用
5.3 Co等金属膜への応用
6.ALD/ALE技術の課題と展望
□質疑応答□
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」(遷移先WEBサイト)よりご確認ください。
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