イベント名 | レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向 |
---|---|
開催期間 |
2023年09月07日(木)
10:30~16:30 【アーカイブの視聴期間】 視聴期間:終了翌営業日から7日間[9/8~9/14]を予定 ※アーカイブは原則として編集は行いません ※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。 (開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます) ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
会場名 | 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き |
会場の住所 | オンライン |
お申し込み期限日 | 2023年09月07日(木)10時 |
お申し込み受付人数 | 30 名様 |
お申し込み |
|
レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向
~半導体の微細化を支えるリソグラフィと材料~
メタルレジストを含む最新のEUVレジストに、
ダブル/マルチパターニングに自己組織化(DSA)やナノインプリントなどなど、
各種微細加工・リソグラフィ技術やレジスト材料の基礎から、
・これらの職種を希望される学生の方
・基本から解説しますので予備知識は不要です。
講師 |
大阪大学 産業科学研究所 招聘教授 遠藤 政孝 氏【元・パナソニック(株)】
1983年松下電器産業株式会社入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック株式会社セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィ、レジスト材料、微細加工用材料の開発に従事。
2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト材料、EUVレジストの研究開発に従事。
セミナー趣旨 |
メモリー、マイクロプロセッサ等の半導体の高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっています。
本講演では、リソグラフィの基礎、最新のロードマップを述べた後、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、EUVレジストを中心に現在の3nmロジックノードに対応するレジスト・微細加工用材料の要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめます。
セミナー講演内容 |
1.リソグラフィの基礎
1.1 露光
1.1.1 コンタクト露光
1.1.2 ステップ&リピート露光
1.1.3 スキャン露光
1.2 照明方法
1.2.1 斜入射(輪帯)照明
1.3 マスク
1.3.1 位相シフトマスク
1.3.2 光近接効果補正(OPC)
1.3.3 マスクエラーファクター(MEF)
1.4 レジストプロセス
1.4.1 反射防止プロセス
1.4.2 ハードマスクプロセス
1.4.3 化学機械研磨(CMP)技術
2.ロードマップとリソグラフィ技術
2.1 IRDS
2.1.1 リソグラフィへの要求特性
2.1.2 レジスト・微細加工用材料への要求特性
2.2 微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
2.3 最先端デバイスの動向
3.レジストの基礎
3.1 溶解阻害型レジスト
3.1.1 g線レジスト
3.1.2 i線レジスト
3.2 化学増幅型レジスト
3.2.1 KrFレジスト
3.2.2 ArFレジスト
3.2.3 化学増幅型レジストの安定化技術
3.3 ArF液浸レジスト
3.3.1 ArF液浸リソグラフィの特徴
3.3.2 ArF液浸レジストの要求特性
3.3.3 ArF液浸レジストの設計指針
4.レジスト・微細加工用材料の最新技術
4.1 ダブルパターニング、マルチパターニング
4.1.1 リソーエッチ(LE)プロセス用材料
4.1.2 セルフアラインド(SA)プロセス用材料
4.2 EUVリソグラフィ
4.2.1 EUVリソグラフィの特徴
4.2.1.1 露光装置
4.2.1.2 光源
4.2.1.3 マスク
4.2.1.4 プロセス
4.2.2 EUVレジストの特徴
4.2.3 EUVレジストの要求特性
4.2.4 EUVレジストの設計指針
4.2.4.1 EUVレジスト用ポリマー
4.4.4.2 EUVレジスト用酸発生剤
4.2.5 EUVレジストの課題と対策
4.2.5.1 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
4.2.5.2 ランダム欠陥(Stochastic Effects)
4.2.6 EUVレジストの動向
4.2.6.1 分子レジスト
4.2.6.2 ネガレジスト
4.2.6.3 ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
4.2.6.4 フッ素含有ポリマーレジスト
4.2.7 EUVメタルレジスト
4.2.7.1 EUVメタルレジストの特徴
4.2.7.2 EUVメタルレジストの性能
4.2.7.3 EUVメタル増感剤
4.3 自己組織化(DSA)リソグラフィ
4.3.1 グラフォエピタキシー
4.3.2 ケミカルエピタキシー
4.3.3 高χ(カイ)ブロックコポリマー
4.4 ナノインプリントリソグラフィ
4.4.1 加圧方式
4.4.2 光硬化方式
4.4.2.1 光硬化材料
4.4.2.2 離型剤
4.4.2.3 露光装置
5.レジスト・微細加工用材料の技術展望、市場動向
□質疑応答□
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」(遷移先WEBサイト)よりご確認ください。
- サイト内検索
- ページカテゴリ一覧
- 新着ページ
-
- 7/29 やさしく学ぶ Pythonによる化学プロセス設計の基礎と活用 (2025年07月02日)
- 7/29 技術開発・研究開発チームにおける リーダーシップ・チームマネジメントの基礎講座 (2025年07月02日)
- 7/25 匂いセンシング&匂いの提示・調合技術の 基礎と応用および研究開発動向 (2025年06月30日)
- 7/23 目的・種類・顧客ニーズに沿った 洗浄化粧品開発時における処方設計/評価/安全性確保 (2025年06月30日)
- 7/25 高分子膜のガス透過メカニズムと 高分子CO2分離膜の技術動向 (2025年06月30日)
- 7/30 高周波対応FPC材料とFPC形成技術開発 (2025年06月30日)
- 7/23 生成AIを用いた 戦略的規制要件対応セミナー (2025年06月30日)
- 7/28 積層セラミックコンデンサ(MLCC)の 材料設計、製造プロセス技術 (2025年06月30日)
- 10/23 絶縁破壊・劣化の基礎、測定・劣化診断と 高分子絶縁材料の高機能化 (2025年06月30日)
- 7/29 CFRP向けマトリックス樹脂の設計・開発、トレンド把握と 炭素繊維複合材料の最新技術動向 (2025年06月30日)