イベント
| イベント名 | 半導体デバイスにおける 洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題 |
|---|---|
| 開催期間 |
2024年01月29日（月）
13:00～16:30 ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
| 会場名 | Live配信セミナー（リアルタイム配信） |
| 会場の住所 | 東京都 |
| お申し込み期限日 | 2024年01月29日（月）13時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
半導体デバイスにおける
洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題
～洗浄メカニズムと歩留低下技術・汚染制御技術・次世代の洗浄技術～
受講可能な形式：【Live配信】のみ
微細化が止まらない半導体技術に伴い、重要性が増してきている半導体の洗浄技術
次世代半導体に対応するための汚染制御・洗浄乾燥技術とは・・・
洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説
次世代半導体に対応するための汚染制御・洗浄乾燥技術とは・・・
洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説
【得られる知識】
〇半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
〇最新の洗浄液技術を習得できます。
〇最新の洗浄液技術を習得できます。
【対象】
研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です。
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
| 講師 |
オフィスシラミズ 室長 白水 好美 氏
【専門】半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善
| 趣旨 |
半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。
| プログラム |
１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
1.1 クリーン化の重要性
1.2 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
1.3 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
1.4 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
２．洗浄技術
2.1 RCA洗浄
2.2 各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
2.3 洗浄プロセスの動向
2.4 乾燥技術
2.5 最先端の洗浄技術とその問題点
３．その他の汚染制御技術
3.1 工場設計
3.2 ウェーハ保管、移送方法
４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4.1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
4.2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題
□ 質疑応答 □
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
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