イベント

5/22 ＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

電気・電子・半導体・通信表面科学：接着・コーティング / 2024年04月03日 / 電子・半導体光学機器

イベント名	＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応
開催期間	2024年05月22日（水）～ 2024年06月04日（火）【Live配信】2024年5月22日（水）13:00～16:30 【アーカイブ配信】2024年6月4日（火）から配信開始【視聴期間：6/4(火)～6/17(月)】 ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
会場の住所	オンライン
お申し込み期限日	2024年06月04日（火）16時
お申し込み受付人数	30 名様
お申し込み

＜半導体デバイス向けプラズマ装置による高品質成膜へ＞
プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による
高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術／課題と対策を解説■

受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク

★ 30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします！

＜得られる知識・技術＞
プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。

講師

SPPテクノロジーズ(株)
製造部次長　兼　生産管理グループ長　兼　マーケティング部マネジャー　金尾寛人　氏

【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月　名古屋工業大学工学部第一部電気情報工学科を卒業．
1989年4月　住友金属工業(株)に入社．
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月　住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング（現在）

【WebSite】
https://www.spp-technologies.co.jp/

セミナー趣旨

　当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。

セミナー講演内容