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5/31 研磨プロセスの見える化と最適化およびアシスト加工

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電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2024年04月17日 /  産業機械機器 電子・半導体
イベント名 研磨プロセスの見える化と最適化およびアシスト加工
開催期間 2024年05月31日(金)
13:30~17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信)
会場の住所 東京都
お申し込み期限日 2024年05月31日(金)13時
お申し込み受付人数 30  名様
お申し込み

研磨プロセスの見える化と最適化およびアシスト加工

-研磨のプロセスでは何が起こっているのか-

~パッド、スラリー、コンディショナの作用機構の解明と
研磨メカニズムの理解~

 

受講可能な形式:【ライブ配信】のみ

CMP等の研磨プロセスにおいて副資材である
パッド、スラリー、コンディショナに焦点をあてて解説

パッド、スラリー、コンディショナの役割、作用機構、
相互関係、研磨レートとの関連、、、、

研磨はどう進行するのか、何に影響を受けるのか
研磨のメカニズムを知り、さらなる研磨の最適化、副資材の使い方、設計・開発に繋げる 
 
キーワード:研磨プロセス パッド スラリー コンディショナ アシスト加工

 

講師

 

 金沢工業大学 工学部 機械工学科 教授 博士(工学) 畝田 道雄 氏
【講師紹介】

 

 趣旨

 

  研磨プロセスでは副資材としてパッド、スラリー、コンディショナが用いられます。それらを設計するには、当然のことながら、それらの作用機構を理解しておくことが望まれます。本セミナーでは,以下の3つの項目について事例(実験結果)を交えながら解説します。
(1)パッドの役割:パッドのアスペリティが研磨(特に研磨速度)にどのような影響を及ぼすか、をお話しします。さらに、そのアスペリティを適切に評価できる手法についても解説します。(2)コンディショナの役割:パッドのアスペリティを適切に作る副資材がコンディショナです。コンディショナにも様々なタイプがありますが、4種類のコンディショナを例にしながら、それらの作用機構を解説します。
(3)スラリーの役割:研磨プロセスではパッドとウェーハの接触界面へ適切にスラリーが運搬され(流れ込み)、それに含まれる微細粒子  によって研磨が進行します。そこでは、そのスラリーの運搬はどのように行われているのかについて解説します。それをマクロスケールで見た場合、ミクロスケールで見た場合を比較して、どのような現象が接触界面で行われているのかを解説します。
 また、これらの知見に基づいて、見える化技術の応用事例として、AI導入研磨装置の開発や、定盤と研磨ヘッドの負荷電流のみの情報から、リアルタイムで研磨レートと摩擦係数を同時予測する手法についてもご紹介します。 さらに、より高い研磨速度を確保するために開発してきたアシスト加工、とりわけオゾンガスナノバブルスラリー手法についても紹介します。

 

 プログラム

 

○自己紹介

○研磨プロセスの概要

○パッド

 ・パッドアスペリティの測定・評価手法
 ・パッドアスペリティと研磨レートの関係
 ・注意事項

○コンディショナ
 ・コンディショナの概要と測定・評価手法
 ・砥粒配列の影響
 ・砥粒形状の影響
 ・コンディショナの作用機構

○スラリー
 ・研磨レートの定式化
 ・スラリー中における砥粒の流れ場解析
 ・解析結果と研磨レートの関係
 ・定式化に向けて
 ・動的接触観察によるスラリー流れ場
 ・砥粒接触位置の推定
 ・砥粒の移動速度と接触点の動き
 ・研磨レートとの対応関係

○見える化技術の応用事例
 ・研磨メカニズム理解の終着点
 ・学習プロセスを導入した知能研磨システムの構築
 ・リアルタイム予測に向けて

○アシスト加工
 ・オゾンガスナノバブルスラリー手法
 ・遊星アシスト手法
 ・超音波アシスト手法 

○おわりに

□質疑応答  

 

※詳細・お申込みは上記

「お申し込みはこちらから」(遷移先WEBサイト)よりご確認ください。

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