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6/28 CMP技術と その最適なプロセスを実現するための 実践的総合知識

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電気・電子・半導体・通信  / 2024年05月24日 /  産業機械機器 電子・半導体
イベント名 CMP技術と その最適なプロセスを実現するための 実践的総合知識
開催期間 2024年06月28日（金） ～ 2024年07月12日（金）
【ライブ配信】2024年6月28日（金）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2024年7月12日（金）まで受付
(視聴期間：7/12～7/26）
※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
会場の住所 オンライン
お申し込み期限日 2024年07月12日（金）16時
お申し込み受付人数 30  名様
お申し込み

CMP技術と
その最適なプロセスを実現するための
実践的総合知識

～装置、スラリー・研磨パッド等の消耗材料の技術、応用プロセス、研磨メカニズム～

■装置、スラリー技術、パッド技術とその材料・開発・プロセス評価■
■デバイス応用事例、様々な基板研磨技術■
■CMP材料除去メカニズムの変遷と最新モデル■

 

受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ

【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク ​
CMP工程の各種メカニズムの解明とスラリー、パッド、コンディショナー、、、消
耗材の開発・評価のヒントを提示

研磨精度・デバイス表面平坦度の向上とスラリー・パッド等部材の低コスト化の
両立を目指して

最新配線構造、最新のトランジスタ構造、3DNAND、ウエハ接合、
各種基板へのCMP応用技術
材料の研磨と除去、構造形成するための加工技術としての技術を解説

半導体等のデバイス製造において今やなくてはならないキープロセスの基礎と全貌
CMP及び周辺の技術・材料・装置に携わる方々は是非
 
【得られる知識】
○CMPに関わるあらゆる基礎知識～
・装置技術、スラリー技術、パッド技術、コンディショナー技術
・材料・プロセス評価技術
・デバイス応用事例、様々な基板研磨技術
○CMP材料除去メカニズムの変遷と最新モデル
 
キーワード：CMP研磨パッド,スラリー,EPD,研磨ヘッド,FinFET,CuCMP,シリコンウエハ,サファイア,SiC
  
 講師

 

(株)ISTL　代表取締役社長　博士(工学)　礒部 晶　氏
【講師紹介】

 

 セミナー趣旨

 

　CMPがデバイスの製造工程に用いられるようになって、すでに30年以上が経過した。当初はゲテモノ扱いされていた CMPも今やなくてはならないキープロセスとなっている。半導体デバイス製造における様々なCMP工程の特徴を紹介し、それに用いられる装置、スラリー、パッドの詳細を解説する。各種基板研磨や新たな応用についても解説する。さらに、CMPによる材料除去のメカニズムについて様々なモデルを紹介し、そこからパッドやスラリーの開発のヒントを提示する。

 

 セミナー講演内容

 

1．CMP装置
　1.1 CMP装置の構成
　1.2 ヘッド構造
　1.3 終点検出技術
　1.4 APC
　1.5 洗浄

2．CMPによる平坦化
　2.1 CMPによる平坦化工程の分類
　2.2 平坦化メカニズム

3．CMP消耗材料
　3.1 各種スラリーの基礎
　3.2 砥粒の変遷
　3.3 添加剤の役割
　3.4 スラリーの評価方法
　3.5 研磨パッドの基礎
　3.6 研磨パッドの評価方法
　3.7 コンディショナーの役割

4．CMPの応用
　4.1 最新配線構造とCMPの詳細
　4.2 最新のトランジスタ構造とCMP
　4.3 3DNANDにおけるCMP
　4.4 ウエハ接合技術とCMP
　4.5 各種基板CMP

5．CMPの材料除去メカニズム
　5.1 研磨メカニズムモデルの歴史
　5.2 新しいモデル～Feret径モデル
　5.3 Feret径モデルの数値検証
　5.4 Feret径モデルに基づく開発のヒント
　5.5 研磨対象別材料除去メカニズム

まとめ

□質疑応答 

※詳細・お申込みは上記

「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。

 

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