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7/23 半導体デバイスの物理的洗浄手法

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電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2024年05月28日 /  電子・半導体 先端技術
イベント名 半導体デバイスの物理的洗浄手法
開催期間 2024年07月23日(火) ~ 2024年08月19日(月)
【Live配信】2024年7月23日(火)13:00~16:30
【アーカイブ配信】2024年8月19日(月)まで受付
(視聴期間:8/19~8/30)
※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名 【Live配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
会場の住所 オンライン
お申し込み期限日 2024年08月19日(月)16時
お申し込み受付人数 30  名様
お申し込み

半導体デバイスの物理的洗浄手法

~半導体の構造、静電気障害対策から先端の洗浄法まで~

 

受講可能な形式:【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ
 
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク 

半導体デバイス製造時の静電気障害の対策を長年研究されている講師が教える
【半日集中講義】
 
■ 半導体デバイスのマーケット動向、業界の動き
■ 半導体製造の基礎、流体力学の理解を通じて、半導体洗浄の原理を理解
■ 歩留まりに大きく関わる洗浄プロセスにおける、スプレー・超音波・ブラシなどの各洗浄方法と静電気障害への対策
■ 次世代の物理洗浄技術とは

半導体デバイス洗浄に関わる若手技術者の皆様、半導体デバイス洗浄ビジネスについて情報収集の皆様は、ぜひ本セミナーを業務にお役立てください。
 
【受講対象】
・半導体デバイス洗浄に関わる、3~4年目の技術者の方
・半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方
基礎からお話しますので、お気軽にご参加ください。
 
【得られる知識】
 ・半導体デバイス市場動向と業界動向
・半導体の基礎、半導体物理洗浄の原理
・半導体デバイス製造時の静電気障害の対策
 
 講師

 

愛知工業大学 工学部 電気学科 教授 清家 善之 氏


【ご専門】電子デバイス製造プロセス、有機ELデバイス、有機薄膜太陽電池、スプレー、成膜、静電気、洗浄
【ご研究室HP】https://www.seikelab.com/

 

 セミナー趣旨

 

 近年、半導体デバイスの進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーでは半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介します。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3から4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。

 

 セミナー講演内容

 

1.半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向
 
2.半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
 2.1 半導体デバイスの基礎
 2.2 半導体製造プロセス
 2.3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
 2.4 化学的洗浄と物理的洗浄
 
3.水流を利用した洗浄について
 3.1 流体力学の基礎
 3.2 高圧スプレー洗浄
 3.3 二流体スプレー洗浄
 3.4 超音波洗浄スプレー洗浄
 3.5 ブラシ洗浄
 3.6 次世代の物理的洗浄技術
 
4.スプレー洗浄時の静電気障害
 4.1 静電気の基礎
 4.2 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
 4.3 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
 
5.最先端の洗浄方法(表面処理)
  学会等からの情報

□質疑応答□

※詳細・お申込みは上記

「お申し込みはこちらから」(遷移先WEBサイト)よりご確認ください。

 

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