イベント
| イベント名 | メタルレジストの特徴と EUV露光による反応メカニズム |
|---|---|
| 開催期間 |
2025年04月17日（木）
～ 2025年05月08日（木）
【ライブ配信】2025年4月17日（木）13:00～15:30 【アーカイブ配信】2025年5月8日（木）まで受付 （視聴期間：5/8～5/21） ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
| 会場名 | 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2025年05月08日（木）16時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
メタルレジストの特徴と
EUV露光による反応メカニズム
～メタルレジストの構造、EUV露光における反応、半導体微細化の最新動向～
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ
近年2nmスケールの半導体が非常に注目を集めているなかでレジスト、
とりわけメタルレジストがなぜ重要なのか
各社のメタルレジスト、EUV光利用におけるメタルレジストの必要性、
メタルレジストのEUV露光による反応機構、、、
2nmスケール半導体作製における核技術、世界動向についても可能な限り解説
【得られる知識】
メタルレジストの構造、EUV露光における反応、半導体微細化の最新動向
【対象】
半導体微細化におけるレジスト技術に興味のある方
半導体微細化の最先端動向に興味のある方
半導体微細化におけるレジストの最新動向を学習したい方
半導体微細化の最先端動向に興味のある方
半導体微細化におけるレジストの最新動向を学習したい方
キーワード:EUV、メタルレジスト、次世代半導体構造
| 講師 |
（国研）物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター 主幹研究員 博士（理学）
山下 良之 氏
【講師紹介】
| セミナー趣旨 |
近年2nmスケールの半導体が非常に注目を集めている。その中の核技術の1つとしてレジストがあげられる。本講演では1)メタルレジストがなぜ重要か、2)各社が開発したメタルレジスト、3)EUV光利用におけるメタルレジストの必要性、4)メタルレジストのEUV露光による反応機構を中心に講演を行っていく。必要に応じて、2nmスケール半導体作製における核技術、世界動向についても講演を行う。
| セミナー講演内容 |
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
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