| イベント名 | メタサーフェスの基礎・設計・製作と光制御およびデバイス応用 |
|---|---|
| 開催期間 |
2026年06月25日（木）
13:00～17:00 【見逃し配信の視聴期間】 開催翌営業日から7日間［6/26～7/2中］を予定 ※動画は未編集のものになります。 ※視聴ページは、開催翌営業日にマイページへリンクを設定します。 ※会社・自宅にいながら受講可能です。 ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 ■配布資料 PDFデータ(印刷可・編集不可) ※開催2日前を目安に、主催会社様HPのS&T会員マイページよりダウンロード可となります。 |
| 会場名 | 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2026年06月25日（木）12時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
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メタサーフェスの基礎・設計・製作と光制御およびデバイス応用
受講料（税込）：49,500円
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【オンライン配信】
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アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）
セミナー視聴はマイページから
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（アーカイブ配信は、配信日に表示されます。）
メタサーフェスによる透過スペクトル制御・偏光制御・位相制御といった光制御の基礎、
さらにはメタレンズ、光クローキング（透明化）やスーパーレンズ、測距、分光イメージング、カラーフィルタ、
ホログラフィなどへの応用まで、種々の設計・製作・評価事例を交えながら、幅広く充実した情報をお届けします。
講師
東京農工大学 工学研究院 先端機械システム部門 教授 博士(工学) 岩見 健太郎 氏
【専門】メタサーフェス・MEMS
2003年東北大学工学部卒，2008年東北大学大学院工学研究科博士後期課程修了，博士(工学)．2005年―2008年に日本学術振興会特別研究員(DC1)．2008年より東京農工大学大学院工学府機械システム工学専攻助教．2011年―2012年に米国Stanford大学 Visiting Scholar. 2012年より農工大准教授．N/MEMSとプラズモニクスの融合を研究テーマとし，新規光学素子や光位相変調素子，太陽熱光発電システムの研究に従事
セミナー趣旨
自然界にない光学特性を示す人工物質であるメタマテリアルは，製作の困難さから光の波長における製作例は少ない．一方リソグラフィ技術の進展によって，平面的な構造を容易に製作することが可能となった．金属や誘電体ナノ構造の配列によって極薄の光学素子を形成する研究が近年進展している．この分野はメタサーフェスと呼ばれ，メタマテリアルの中でも特に実用化に近い分野として期待されている．代表的な例として、メタレンズ・偏向素子・ホログラムなどがある。本セミナーでは，メタサーフェスの原理・特徴、作製方法と応用について述べる．
セミナー講演内容
１．メタマテリアルの基礎
1.1 メタマテリアルとは
・メタオプティクス研究の流れ
・物質の電磁場応答
・負の屈折率と左手系物質
・誘電率と透磁率：4象限の分類
・なぜ自然界に負の屈折率はないのか
・メタマテリアルの歴史
1.2 メタマテリアルの応用と作成方法
・スーパーレンズ
・光クローキング
・マイクロ波メタマテリアルの作成方法
・メタマテリアルからメタサーフェスへ
２．メタサーフェスの基礎
2.1 メタサーフェスによる光制御
・メタサーフェスでなにができるか
・メタサーフェスの分類（金属メタサーフェス/誘電体メタサーフェス）
・透過スペクトル制御
・偏光制御
・位相制御
・位相遅延原理によるメタ原子の分類
・可視光レンズの設計指針
・軌道角運動量制御
2.2 メタサーフェスの設計・作成法
・電磁場解析手法（FDTD,RCWA,FEM）
・トップダウン製作法
・リフトオフ・リソグラフィ・ナノコーティング(側壁堆積)
・ボトムアップ製作法
・ナノスフィアリソグラフィ
３．メタサーフェスの応用
3.1 メタサーフェス光学素子
・メタレンズ
・メタレンズと回折レンズ
・メタレンズと最近のトレンド（高効率・高NA・色消し・大面積・etc）
・機能性メタレンズ（分光・偏光分離・測距・複眼）
・キラリティと光相反性・アイソレータ
・位相子と波長板
・波面制御とホログラフィ・立体動画
・カーペットクローキング
・熱輻射制御
3.2 可変メタサーフェス
・透過強度変調
・カラーフィルタ
・可変レンズ
・位相変調器
・キラリティ変調
４．まとめと今後の展望
□質疑応答□
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
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