| イベント名 | シランカップリング剤の反応メカニズム解析、界面(層)形成・表面の反応状態の分析・評価方法 |
|---|---|
| 開催期間 |
2026年06月30日(火)
~ 2026年07月17日(金)
【ライブ受講】 2026年6月30日(火) 13:00~16:30 【アーカイブ受講】 2026年7月17日(金)まで受付 (配信期間:7/17~7/31) ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 ■配布資料 PDFデータ(印刷可・編集不可) ※開催2日前を目安に、主催会社様HPのS&T会員マイページよりダウンロード可となります。 ※アーカイブ配信受講の場合は、配信開始日からダウンロード可となります。 |
| 会場名 | 【ライブ配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2026年07月17日(金)12時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
シランカップリング剤の反応メカニズム解析、界面(層)形成・表面の反応状態の分析・評価方法
~シランカップリング剤の添加・反応は界面に何を起こしているのか~
受講料(税込):49,500円
\お得な割引キャンペーン実施中!/
詳細・お申し込みは「お申し込みはこちらから」よりご確認ください。
【オンライン配信】
ライブ配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください)
セミナー視聴はマイページから
お申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード/映像視聴ページ」に
お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。
(アーカイブ配信は、配信日に表示されます。)
加水分解・重縮合の進行状況の評価
シランカップリング剤の反応に影響する諸因子の解明と制御
シランラップリング剤の添加効果・反応のはかり方、処理した界面では何が起こるのか
加水分解・重縮合反応に及ぼすphの影響、反応前処理の影響、溶媒・反応物濃度の影響、反応環境(気相・液相)の影響
処理表面の被覆量の分析・解析と各種分析手法の基礎的事項とその有効性
実用上重要となる各種無機・有機界面との界面層形成と界面反応の評価・分析方法
「理想的」界面層と「実際の」界面層は何故違ってくるのか
講師
宇都宮大学 工学部 基盤工学科 応用化学コース 教授 博士(工学) 佐藤 正秀 氏
■略歴
2018年半ばまで、富士フイルム株式会社に所属し、フィルム製造を中心とした生産技術開発に関わり、生産性向上、品質安定化、コストダウンなどに従事。在籍中に、米国ミネソタ州立大学にて塗布流動の研究、海外メーカでの製造立ち上げ、新規製造技術の開発、九州大学など多数の大学との共同研究、写真/印刷・電子/光学・医療等の分野における新商品開発などを経験。同社を早期退職後、技術アドバイザーや技術顧問として、これまで10社以上にて製造技術の支援を行ない、現在に至る。
■専門
フィルム成形、コーティング、ラミネーティング、インプリンティング
セミナー趣旨
シランカップリング剤は従来から無機・有機材料界面でのぬれ、接着性、相容性向上のために広く使われており、さらに近年ではナノスケールで均一化された無機・有機コンポジット/ハイブリッド系材料開発に不可欠なものとなっています。
本講では、シランカップリング剤の加水分解から重縮合にいたる反応性に影響するさまざまな因子、シランカップリング剤の反応メカニズムや、実用上重要となる各種無機・有機界面との界面層形成と界面反応の評価・分析方法について概説します。
セミナー講演内容
1.シランカップリング剤の反応メカニズム
1.1 シランカップリング剤の反応
1.2 加水分解反応
1.3 重縮合反応
2.シランカップリング剤の反応に影響する諸因子
2.1 加水分解・重縮合反応に及ぼすphの影響
2.2 反応前処理の影響
2.3 溶媒、反応物濃度の影響
2.4 反応環境(気相・液相)の影響
3.シランカップリング剤の界面層形成
3.1 酸化物無機材料への界面形成
3.2 金属無機材料へのメルカプト基を介する界面形成
3.3 有機材料へのメルカプト基を介する界面形成
3.4 有機材料へのエポキシ基を介する界面形成
3.5 有機材料へのアミノ基を介する界面形成
3.6 チオール/ホスホン酸SAMの概要
3.7 ヒドロキシ基を介したチオール/ホスホン酸-有機シラン複合膜の形成
3.8 シランカップリング剤を用いる分子接合界面形成
4.粉体/基板表面とシランカップリング剤の界面層形成評価
4.1 FT-IRによる評価
4.2 BETによる評価
4.3 ゼータ電位による評価
4.4 XPSによる評価
4.5 SEM/EDX, STEM/EDXによる評価
4.6 AFMによる評価
4.7 接触角測定とXPS、AFM
4.8 ナノスケールで見る「理想的」界面層と「実際の」界面層
質疑応答
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」(遷移先WEBサイト)よりご確認ください。
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