6/20 プラズマエッチング装置・プロセスにおける 不良発生の検知技術と部材のプラズマ耐性向上技術
| イベント名 | プラズマエッチング装置・プロセスにおける 不良発生の検知技術と部材のプラズマ耐性向上技術 |
|---|---|
| 開催期間 |
2024年06月20日（木）
10:30～16:30 【アーカイブの視聴期間】 視聴期間：6/21～6/27の7日間 ※アーカイブは原則として編集は行いません ※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。 (開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます） ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
| 会場名 | 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2024年06月20日（木）10時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
プラズマエッチング装置・プロセスにおける
不良発生の検知技術と部材のプラズマ耐性向上技術
パーティクル対策、プロセス異常モニタリング、部材の腐食・プラズマ耐性評価 etc.
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク
部材の腐食やパーティクル発生などに悩まされていませんか？
不良発生の抑止や予知保全、ひいては装置稼働率や歩留まりの向上、メンテナンス費用削減、装置機差の低減などにお役立ていただける１講です。
【得られる知識】
プラズマエッチングプロセスにおける異常検出やプロセスモニタリング手法について知識を習得出来ます。
・パーティクルのその場検出手法
・異常放電のその場検出手法
・プロセスチャンバー状態診断手法
・アコースティックエミッション(AE)を用いた異常検知手法
・プラズマプロセス装置チャンバー内部品部材のプラズマ耐性評価 など
【受講対象】
半導体製造工程におけるプラズマプロセスに携わっている方など、本テーマに興味のある方ならどなたでも受講可能です。
| 【Live配信受講者 限定特典のご案内】
当日ご参加いただいたLive(Zoom)配信受講者限定で、特典(無料)として
「アーカイブ配信」の閲覧権が付与されます。
オンライン講習特有の回線トラブルや聞き逃し、振り返り学習にぜひ活用ください。 |
| 講師 |
(国研)産業技術総合研究所 センシングシステム研究センター 複合センシングデバイス研究チーム 博士(工学) 笠嶋 悠司 氏
【専門】高電圧工学、プラズマ理工学 【講師紹介】
| セミナー趣旨 |
現在、半導体はもはや産業上の一部品としてではなく、経済安全保障に関わる極めて重要な「特定重要物資」として扱われています。半導体製造技術の最先端では2nm、更にはより以細な製造技術の研究開発も進められています。その一方、国内半導体産業の特長の一つは、車載用マイコンやパワーデバイスを始めとして最先端の微細製造技術を必ずしも必要としない半導体デバイスに競争力を有することです。本セミナーでは、後者の製造を多く担う、いわゆるレガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について紹介、解説します。
| セミナー講演内容 |
1.1 半導体業界の動向
1.2 半導体製造工程
1.3 製造工程におけるプラズマプロセス
1.4 量産ラインにおける課題
1.5 半導体製造効率、歩留まり
1.6 プラズマエッチング
２．プラズマエッチングプロセスにおけるパーティクル課題
2.1 パーティクル対策の必要性
2.2 パーティクルのその場検出手法
2.3 パーティクルの発生メカニズム
2.4 パーティクルの突発的多量発生
３．プラズマプロセスにおける異常モニタリング・検出技術
3.1 プロセス異常モニタリングの必要性
3.2 異常モニタリング・検出手法
3.3 異常放電
3.4 アコースティックエミッション法によるプロセスモニタリング技術
3.5 プラズマインピーダンスモニタリングによる異常検出・プロセス診断技術
４．プラズマ耐性材料とその評価技術
4.1 プロセスチャンバー用部品部材の腐食とパーティクル発生
4.2 高プラズマ耐性材料へのニーズ
4.3 部品部材のプラズマ耐性評価手法～セラミックス部材を例として
□質疑応答□
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
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