4/22 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と 微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望
| イベント名 | リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と 微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 |
|---|---|
| 開催期間 |
2025年04月22日（火）
～ 2025年05月13日（火）
【Live配信】2025年4月22日（火）10:30～16:30 【アーカイブ配信】 2025年5月13日（火）まで受付 （視聴期間：5/13～5/26） ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
| 会場名 | 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2025年05月13日（火）16時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と
微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望
～フォトリソグラフィプロセスの理解とレジスト材料の開発指針～
２．技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用が可能となる。
３．事業課題の設定、事業計画の策定・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、他社との資本・業務提携・アライアンスなどに関する企画立案などの参考になる。
４．科学技術の進歩の負の側面として顕在化してきている地球規模の課題の解決に向けて半導体産業が果たす役割を考察し、日本の半導体産業の現状と課題を整理し、今後の展開の指針としたい。
| 講師 |
鴨志田技術事務所 代表 鴨志田 洋一 氏 （元神奈川大学、ＪＳＲ(株)）
【専門】
機能性高分子、高分子合成、リソグラフィ材料、知的財産権、コーポレートガバナンス
| セミナー趣旨 |
今日の情報化社会は、マイクロエレクトロニクス(ME)の発展に支えられている。その先端技術ともいえる人工知能(AI)は医療分野、自動運転技術への展開から社会への浸透をはじめており、人間に代わるから超えるところまで議論されている。
MEは、1950年代に集積回路(IC)が開発されて以来、大規模集積回路(LSI)のパターンの微細化、高集積化、すなわちメモリー大容量化、システムLSIの高性能化の方向で、一貫して発展してきている。あわせて情報処理の高速化、低価格化も実現してきた。今後もメモリーの大容量化およびシステムLSIの高性能化の流れは止まりそうにないと予測されている。このような流れの中で、フォトリソグラフィの進歩はフォトレジストなどの材料開発が中心軸となってMEの発展に寄与してきたが、これらの材料をうまく使いこなす露光装置を中心としたハードウェア、プロセス技術の進歩も著しいものがある。
レジスト材料の開発はパターンの微細化、高解像度化が中心で、これは主として露光に用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。ここまではさまざまな選択肢、さまざまな試行など、紆余曲折はあったものの、結果として振り返ってみれば、それまでの技術の延長線上で進んできている。1970年代から40年余りの短い時間に次のような大きな技術変革を経験している。
1) コンタクトアライナーによるリソグラフィ技術の確立
2) 投影露光方式の導入
3) 化学増幅型レジスト／エキシマレーザ光源の採用
4) EUV光源の採用など
それぞれのステップで多くのイノベーションが実現され課題を克服してきたわけである。ここでは、これまでの技術・材料開発の事例をまとめ、今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用への指針とする。あわせて、日本の今後の半導体関連産業の在り方についても考察する。
| セミナー講演内容 |
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
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