イベント
| イベント名 | ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用 |
|---|---|
| 開催期間 |
2025年05月21日（水）
13:00～16:30 |
| 会場名 | 受講可能な形式：【会場受講】のみ |
| 会場の住所 | 東京都千代田区神田駿河台3-2-11 連合会館 5階 502会議室 |
| 地図 | https://www.science-t.com/hall/16432.html |
| お申し込み期限日 | 2025年05月21日（水）13時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用
ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎と実用例を解説
受講可能な形式：【会場受講】
本セミナーでは、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を解説する。また、ロールトゥロール（RTR）NILについても説明し、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。さらに、メタサーフェスやAR/MRグラスでのNILの応用状況についても概説する。
【得られる知識】
・ナノインプリントリソグラフィ（NIL）の基礎
・NILにおける金型作製技術、転写樹脂選定、応用事例
・ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例
・反射防止構造フィルムの量産例とその応用
・新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス等
・NILにおける金型作製技術、転写樹脂選定、応用事例
・ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例
・反射防止構造フィルムの量産例とその応用
・新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス等
|
講師 |
東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科・教授 谷口 淳 氏
【その他 活動等】
応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長
【その他 活動等】
応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長
| セミナー趣旨 |
ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。NILは、1995年にプリンストン大学のChou先生が提唱して今年で30周年となる。本講演では、歴史的な背景も説明しつつ、最新のメタサーフェスやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。NILは最先端の高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。
本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。
本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。
| セミナー講演内容 |
１．はじめに
1.1 ナノインプリントリソグラフィの歴史
1.2 ナノインプリントリソグラフィの現状
２．ナノインプリントの基礎
2.1 ナノインプリントの要素技術（金型、樹脂、装置等）
2.2 ナノインプリントの各種方式
2.3 ナノインプリントの位置づけ
３．ナノインプリントの応用技術
3.1 ナノトランスファープロセス
3.2 金属パターン転写
４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
4.1 RTR NILの基礎
4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
4.3 モスアイ構造の作製方法
4.4 モスアイ構造の転写方法
4.5 モスアイ構造の応用例
５．将来展望
5.1 メタサーフェス
5.2 AR/MR グラス
6．まとめ
□ 質疑応答 □
1.2 ナノインプリントリソグラフィの現状
２．ナノインプリントの基礎
2.1 ナノインプリントの要素技術（金型、樹脂、装置等）
2.2 ナノインプリントの各種方式
2.3 ナノインプリントの位置づけ
３．ナノインプリントの応用技術
3.1 ナノトランスファープロセス
3.2 金属パターン転写
４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
4.1 RTR NILの基礎
4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
4.3 モスアイ構造の作製方法
4.4 モスアイ構造の転写方法
4.5 モスアイ構造の応用例
５．将来展望
5.1 メタサーフェス
5.2 AR/MR グラス
6．まとめ
□ 質疑応答 □
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
- サイト内検索
- ページカテゴリ一覧
- 新着ページ
-
- 6/12 積層セラミックコンデンサ（MLCC）の 設計、材料技術、開発動向と課題 (2026年03月26日)
- 6/26 マイクロリアクター・連続生産のスケールアップ実用化と 設備選定・実験・パラメータ検討方法 ≪よく起こるトラブル事例とその解消方法や対策≫ (2026年03月26日)
- 6/4 化粧品の輸出時に押さえるべき海外主要国規制の動向と 登録・申請時に必要な届け出情報作成手順 (2026年03月26日)
- 5/28 スラリーおよび樹脂中の粒子の分散安定化と 塗膜の特性向上の実務 (2026年03月26日)
- 5/27 Excelスプレッドシートの運用管理・バリデーション方法と データインテグリティ対応／当局動向 (2026年03月26日)
- 6/29 半導体パッケージの反り対策に向けた材料開発と測定技術 (2026年03月26日)
- 5/22 水素脆化のメカニズムと評価・解析法、 耐水素脆化特性に優れた材料の開発 (2026年03月26日)
- 6/26 ICH-E6（R3）のCTQ要因をふまえた GCP監査実施におけるQMSの考え方と構築 (2026年03月26日)
- 6/5 半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策 (2026年03月26日)
- 6/26 『無機ナノ粒子の総合知識』 精密合成・評価技術、サイズ・形態制御技術 およびその応用と将来展望 (2026年03月26日)
