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4/15 計算化学からみた エッチングガスの電子物性と解離 ─ 特にイオン及びラジカル生成 ─

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電気・電子・半導体・通信  / 2026年02月04日 /  電子・半導体
イベント名 計算化学からみた エッチングガスの電子物性と解離 ─ 特にイオン及びラジカル生成 ─
開催期間 2026年04月15日（水）
10:30～16:30

※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

【配布資料】
製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
会場名 ライブ配信セミナー（リアルタイム配信）
会場の住所 オンライン
お申し込み期限日 2026年04月15日（水）10時
お申し込み受付人数 30  名様
お申し込み

計算化学からみた
エッチングガスの電子物性と解離
─ 特にイオン及びラジカル生成 ─

エッチングガス反応の本質理解に繋がる、計算化学に基づく最新の解析知見を紹介

 

受講可能な形式：【ライブ配信】のみ
 
【オンライン配信】
Zoomによるライブ配信　►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）

セミナー視聴はマイページから
お申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード／映像視聴ページ」に
お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、開催日時になりましたら、
該当セミナーをクリックしてご利用ください。


エッチング技術の進化には新規プロセスガスの開発が、
エッチングプロセスの制御にはプロセスガスの電子物性への理解が欠かせません。


本セミナーでは、そんな、エッチングの進展や制御に重要となるプロセスガスに焦点を当て、
近年発展している計算化学により得られた最新の解析知見をもとに解説いたします。

  
 講師

 

名古屋大学　低温プラズマ研究センター　客員教授　理学博士　林 俊雄　氏
【専門】エッチング技術　プロセスプラズマ・ガスの解離過程探索

 

 セミナー趣旨

 

 　プロセスガスの物性(イオン化、励起及び電子付着解離)について計算化学を用いて解析し、生成物及びその化学反応性を理解する。そこから得られた知見を基にプロセスに有用な反応種を特定するとともに導入するプロセスガス及び混合ガスの選択(レシピ構成)及び新規ガスの開発を検討する。これらの趣旨に基づき、


1. プラズマ生成の基礎
2. 計算化学の概要
3. 計算化学で明らかになったプロセス
4. 計算化学で明らかになった一次解離過程と生成物
5. 計算化学から得られた知見により開発されたエッチング技術
6. 計算化学から見た新規エッチングガスの提案
7. 計算化学から見た今後の研究課題


について述べる。

 

 セミナー講演内容

 

１．プラズマ生成の基礎
　・今後の課題…負イオンおよびラジカルの計測とプラズマシミレーション
　・負イオンは無視してよいか?
 
２．計算化学の概要
　・計算方法の種類：密度汎関数法とab initio法
　・各種計算方法の優位性　
 
３．計算化学で明らかになったプロセス
　・Siエッチングにおける酸素及び窒素添加効果
　・ゲート付近に残留したSiO2のダメージレス化学エッチング
　・イオン及びラジカルの生成機構と選択比
　・気相中の電荷交換、表面からの脱離反応、負イオン放出
 
４．計算化学で明らかになった一次解離過程と生成物
　・メタン系フッ化物　
　・エタン系フッ化物　　
　・C3F6, C3F8,C4F6, c-C4F8,c-C5F8
 
５．計算化学から得られた知見により開発されたエッチング技術
　・窒化膜の高選択比エッチング
　・NO + F2 →　FNO + F 等の化学反応
 
６．計算化学から見た新規エッチングガスの提案
　・CxHyFz化合物
　・その他の化合物(CF3NO,CF3NH2,SiH4 他)
 
７．計算化学から見た今後の研究課題
　・負イオン形成機構と計測技術およびその役割
　・計算化学から得られたデータを基にした断面積の見積もり
 
　※セミナーの進行具合によって講演項目は一部変更・省略することがあります。

 

 

※詳細・お申込みは上記

「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。

 

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