| イベント名 | イチからわかる、半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望(2026年秋版) |
|---|---|
| 開催期間 |
2026年09月17日(木)
~ 2026年10月09日(金)
【ライブ受講】 2026年9月17日(木) 10:30~16:30 【アーカイブ受講】 2026年10月9日(金)まで受付 (配信期間:10/9~10/23) ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 ■配布資料 PDFデータ(印刷可・編集不可) ※開催2日前を目安に、主催会社様HPのS&T会員マイページよりダウンロード可となります。 ※アーカイブ配信受講の場合は、配信開始日からダウンロード可となります。 |
| 会場名 | 【ライブ配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2026年10月09日(金)10時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
イチからわかる、半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望(2026年秋版)
■半導体市場、技術動向、AI、HBM4、2nm、先端パッケージングの技術動向■
■半導体と製造工程の基礎から、装置・材料への要求、AIによる製造技術の変化■
■地政学と2030年までの業界展望まで体系的に解説■
■装置・材料業界への新規参入と日本企業の事業機会■
受講料(税込):55,000円
\お得な割引キャンペーン実施中!/
詳細・お申し込みは「お申し込みはこちらから」よりご確認ください。
【オンライン配信】
ライブ配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください)
セミナー視聴はマイページから
お申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード/映像視聴ページ」に
お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。
(アーカイブ配信は、配信日に表示されます。)
講師
合同会社アミコ・コンサルティング CEO 友安 昌幸 氏
<経歴・専門・活動>
東京エレクトロン(半導体製造装置メーカー)およびSamsung Electronics(半導体メーカー)の両側の立場から、38年間にわたって装置開発/開発支援に携わってきました。G. Nadler教授が提唱するブレークスルー思考に傾倒し、装置開発だけでなく、あらゆる問題に解決に対して実践してきました。本質の追求、多方向の視点、上位の目的からの最適解を構築することを得意とします。半導体業界での発展の転機に数回にわたって寄与しました。Sematech, SRC, imec, SEMIといったコンソーシア、大学等との協業、M&A DDの経験があります。
SEMI STS, ALE Symposium等での講演経験があります。KPMG Japan製造セクターでのアドバイザー活動もいたしました。
現在は、コンサルタント業務を通して、新規事業、新製品開発に取り組む企業を技術、マネジメント側面で支援しています。また、DX推進支援も行っています。AI, IT系の資格を取得し、ビジネス経験、データ分析経験に根差した、当事者視点での支援を心がけています。
<WebSite>
https://amiko.consulting
セミナー趣旨
生成AIの急速な普及により、先端ロジック、HBM、データセンター向けストレージ、先端パッケージングへの需要が拡大しています。一方、半導体市場の成長は製品・用途によって濃淡があり、市場金額、ウェーハ需要、設備投資を分けて捉える必要があります。
技術面では、GAA、バックサイドパワーデリバリー、3次元実装、ハイブリッドボンディング、光電融合など、従来の微細化とは異なる技術の重要性が高まっています。本講座では、半導体と製造工程の基礎から、装置・材料への要求、AIによる製造技術の変化、地政学と2030年までの業界展望までを体系的に解説します。
セミナー講演内容
1.半導体の基礎
1.1 半導体とは
1.2 ムーアの法則とデナード・スケーリング
1.3 微細化、新材料、3次元化による高集積化
2.半導体産業と市場
2.1 半導体が支える産業と主なアプリケーション
2.1 主な半導体デバイスと半導体産業の構造
2.1 半導体市場・ウェーハ需要・設備投資の見方
3.AIが半導体市場を牽引する構造
3.1 生成AIからエージェント型AI、フィジカルAIへの進展
3.1 AIチップ、カスタムシリコン、エッジAI
3.1 AIデータセンターのメモリー、通信、電力・冷却問題
4.半導体技術動向
4.1 ロジック半導体:GAAと2nm量産
4.2 バックサイドパワーデリバリーと次世代配線
4.3 DRAM、HBM4、ベースロジックダイ
4.4 3D NANDとデータセンター向けストレージ
4.5 アドバンストパッケージングとチップレット
4.6 ハイブリッドボンディングと3次元実装
4.7 シリコンフォトニクスと光電融合
4.8 イメージセンサーとエッジセンシング
4.9 パワー半導体の市場・技術動向
4.10 DTCOからSTCOへ――システム全体の最適化
5.半導体製造装置と材料
5.1 半導体製造工程と製造装置の全体像
5.2 装置・材料の協同最適化と装置開発の考え方
5.3 リソグラフィー:EUV、High-NA EUV、レジスト
5.4 エッチング:高アスペクト比、低温、原子層制御
5.5 成膜:ALD、CVD、PVD、エピタキシャル成長
5.6 CMP:新材料、微細配線、接合面の平坦化
5.7 ドーピング・熱処理と3次元構造への対応
5.8 洗浄・乾燥と微細・3次元構造への対応
5.9 先端パッケージングの製造装置・材料
5.10 検査・計測・テストの重要性
5.11 APC、装置制御、AI、デジタルツイン
6.半導体産業を取り巻く環境
6.1 環境規制、電力・水、PFAS、希少材料
6.2 米中対立、輸出規制と中国の装置国産化
6.3 半導体製造の地域分散と日本の製造基盤
7.2030年までの展望と事業戦略
7.1 2030年までの半導体・製造装置業界の展望
7.2 製造装置・材料業界への新規参入
7.3 日本の装置・材料企業の事業機会
□質疑応答□
※詳細・お申込みは上記
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