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有機EL成膜装置を新規導入しました。 2016年12月15日導入 EL材料特性検討、EL素子の作製、ELプロセスの研究・開発・検証が 可能です。 本装置は、高真空雰囲気にて基板表面に有機材料および金属材料を 連続的に…
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高温・真空・加圧・ギ酸還元対応 真空リフロー装置 2016年12月導入 従来のリフロー装置より 高温域(350°C以上) での実装が可能となりました。 ■ 特 徴 ①最大650℃までの処理が可能。 (加熱エリア 260mm×21…
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